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2004中国平板显示学术会议

召开年：2004
召开地：上海
出版时间： 2004-10-01

主办单位：中国电子学会;中国物理学会

会议文集：2004中国平板显示学术会议论文集

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1.小尺寸TFT-LCD驱动电路的设计
- 张志伟;荆海;黄金英;邝俊峰;蔡克;朱长春
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：根据TFT-LCD的显示特性,利用Linear Technology公司的LTC3450小尺寸TFT-LCD驱动专用电源芯片和台湾HYMAX公司的栅、源驱动芯片HX8604和HX8201,设计小尺寸TFT-LCD的驱动电路.本文主要介绍各芯片的工作特点及其硬件电路.
2.液晶电视的电源管理
- 陈迎锋
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：本文介绍液晶电视电源管理的实现技术.在图像正常显示状态时,采用可变占空比的图像刷新率,亮度补偿和对比度增强来降低背光亮度,关闭不需要工作的接口电路等方法;在软关机省电状态时,采用关闭液晶屏、背光逆变器和灯管,关闭所接口和电路,降低微处理器和图像处理器工作频率,减低内存访问速度等方法.同时,详细描述各主要器件正常工作时的消耗功率和省电时的最低消耗功率.实验比较表明,42"液晶电视降低功耗可以达到约8﹪.
3.一种超薄型彩色模块PDP
- 孙伯彦;俞益庭
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：新近研制成功了一种窄密封边的薄型彩色模块等离子体显示板,玻璃基板采用2.0mm厚的普通浮法玻璃,利用现有的模块PDP制造技术,对显示板的结构进行优化设计,改良并创建了PDP显示板某些新的制造工艺和方法,解决了薄玻璃基板在高温下扭曲、形变等问题,研发成功了密封边宽度≤0.6mm、显示板厚度仅为4mm的超薄型彩色模块PDP,这种超薄型彩色PDP比传统PDP更具有重量轻、光透过率好,视角宽,成本低等优点,是当今世界上最薄的彩色等离子体显示板.
4.印刷型FED场致发射显示器的研制
- 郭太良;林志贤;林建光;吴新坤;黄振武;林金堂;林燕飞;郭明勇;赵博选;林君坦;周小红;胡利勤;张永爱;何国金;廖志君
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：采用丝网印刷、真空镀膜和阴极激活技术,我们研制出能显示视频图象的20英寸单色和彩色FED显示器样机,其亮度分别已达300cd/m<'2>和150cd/m<'2>,单色对比度已达400:1.文中详细讨论了阴极激活降低阴极表明逸出功进而增强阴极的电子发射能力的作用.
5.怎样评价LCD显示屏
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：本文之要介绍了如何评价液晶显示屏,分别从它的分辨力、响应时间、亮度、均匀度、对比度几方面,对液晶显示屏的各项能力加以评测.
6.等离子显示器障壁结构及制作工艺的进展
- 牟新强;潘建华
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：本文总述近年来PDP中障壁结构单元的技术进展,重点讨论了各种单元结构(传统的条状结构、先锋公司的华夫结构、松下公司的不等宽结构、富士通日立公司的Del TA结构),以及障壁印刷法、喷砂法、填充法、感光性浆料法的制作工艺过程及新技术的发展.
7.改变子场权值以处理PDP动态伪轮廓的一种实现方法
- 尤剑鸣
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：在采用子场显示方式的交流PDP中,如何解决动态伪轮廓问题是画质处理的重点.改变子场权值是较为常用的一种方法.通常采用查表的方法来实现改变子场权值.这种方法,要占用控制芯片内的大量存储单元,增加了成本.本文介绍一种改变子场权值的方法,将原先的8个子场转换为12个子场;不占用芯片的内部存储器,通过动态的数学计算,得出各个像素针对这12个子场模式的灰度值,从而实现了子场权值的改变.
8.工业超纯水在平板显示业的应用
- 喻遵军
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：随着科技的发展、时代的进步,超纯水在平板显示业中的重要作用也日益明显,纯水水质已对最终产品质量、生产成品率及生产成本产生至关重要的影响.本文在大量实践工程技术上,总结了工业超纯水在平板显示行业中的应用及注意事项.
9.厚膜电致发光显示器件
- 喻志农;薛唯;蒋玉蓉;卢维强
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：为了适应军用装备平板显示器的需要,厚膜电致发光显示器(TDEL)被研制和发展,整个器件结构为陶瓷基板/内电极/厚膜绝缘层/发光层/薄膜绝缘层/ITO透明电极.本文给出了亮度与频率、亮度与电压的关系,并对器件的击穿和老化特性进行了简单的讨论.测试结果表明厚膜电致发光显示器件的阈值电压低于45V、发光亮度可达200cd/cm<'2>以上.
10.基于DLP的汽车多信息可视仪
- 赵申苓
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：为了有效确保汽车的安全,随着现代科技的发展,汽车信息的电子化已成为必然趋势.可以看到一些高档汽车,正在逐步用上了自动传感、电子控制、故障诊断、GPS导航等一系列的电子化产品和手段.以帮助汽车更有效的安全行驶.本文简述了基于DLP的汽车多信息可视仪的组成及其应用.
11.纳米碳基薄膜冷阴极及其场发射显示器
- 孙卓;陈奕卫;郭平生;陈婷;张哲娟;王莉莉;曹章轶;倪晟;郑志豪;Y.Sun
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：场发射显示器(FED)被认为是平面显示器中最理想新一代器件,采用纳米结构的碳基薄膜材料为冷阴极使得开发实用化的FED成为可能.本文从碳纳米材料的制备装备、制备工艺、FED器件的结构和封装等方面进行了综述.同时报道了新近用多功能等离子体沉积和低压化学气相沉积方法制备的多壁纳米管/纤维复合薄膜为阴极材料,用普通玻璃为衬底,成功地研制出2-4英寸的高真空封装的FED原型器件,该显示器具有优异的场发射性能,如电子发射电场为1.6V/μ m,FED正常发光电场为3V/μm.FED具有稳定和高亮度的显示效果,使研制实用化的FED取得了突破.
12.配向膜前瞻技术
- 张家文;朱文崇
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：非接触式配向技术,虽然可以避免磨差定向衍生的种种问题,但却可以符合未来大面板、高分辨率、广视角等高显像技术品质发展趋势要求,而成为明日之星.但以目前发展来看,在材料、制程良率与生产速度上都还尽理想,将是未来大家努力方向.
13.平板显示器产业化进展及发展趋势
- 田民波
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：从现在起,到2010年,FPD将以年均33﹪的速度增长.韩国第8代(2500mm×3000mm)生产线将于2007年投产,2004后半年台湾地区的TFT-LCD产能有可能居世界首位.PDP厂家纷纷扩大生产规模,PDP将成为大型彩电的主流,本文介绍了世界范围内平板显示器产业化进展和发展趋势.面对机遇和挑战,对我国发展平板显示器产业战略提出建议.
14.平板显示器接口电路通用IP核的SoC实现
- 李阳;耿卫东;代永平;孙钟林
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：目前,以LCD、PDP、FED、OLED以及LCoS等为代表的平板显示器不断地走出实验室,步入市场,成为最有发展前途的显示器.它们各具优势,其显示原理也不尽相同;但它们的显示接口控制电路却是可以通用的,这样就促使了平板显示器接口电路通用IP核的诞生.本文阐述了平板显示器接口电路通用IP核研发的必要性,并介绍了SoC的概念及设计方法,最后探讨了平板显示器接口电路通用IP核的SoC实现方法.
15.驱动电压波形对新型荫罩式PDP单元放电效率影响的研究
- 张健
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：本文利用流体模型,研究了驱动电压波形的变化对荫罩式PDP(SM-PDP)单元放电性能的影响.给出了在多种电压波形下,放电单元的电子平均浓度和放电效率.电压波形的不同,使放电过程中空间电场产生变化,这些变化改变了放电反应的反应过程,使放电特性,特别是使放电效率发生变化.本文分析了电压波形对放电过程的影响,为选择合适的电压波形,进一步提高PDP的性能提供帮助.
16.三维立体显示技术综述
- 王琼华;成建波;杨刚
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：三维立体显示技术是当今一个引人注目的前沿科技领域.本文介绍了三维立体显示的概念、分类和技术方法,阐述了三维立体显示的各种重要应用及意义,综述了三维立体显示的研发动态,介绍了三种最新的自动三维立体显示技术.建议我国大力发展该领域的研究工作.
17.彩色PDP低功耗驱动技术
- 曹允
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：分析了目前彩色PDP功耗较大的原因,综合介绍了各种降低功耗的驱动技术,这些方法的综合采用,可以显著降低功耗.
18.场助热电子发射显示器介质层的研究
- 王红光;刘逸忠;肖田
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：本文介绍了一种场助热电子发射阴极中绝缘介质层的制作工艺,对五氧化二钽、三氧化二铝、二氧化铪等介质进行了电子束蒸发镀膜实验,并对其电学性能进行了分析比较,在此基础上复合了Ta<,2>O<,5>-Al<,2>O<,3>-HfO<,2>等几种介质结构,经过对复合结构的击穿场强、介电常数等电学性能的测试后确认获得了比较满意的结果.
19.垂面排列液晶盒中不同电场表述的比较
- 任芝;张志东;李志广
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：本文用均匀场方法计算了垂面排列液晶显示在改变电场后指向矢的瞬态分布,继而求得光透过率随时间的变化曲线,并与非均匀场方法的计算作比较.计算结果表明:均匀场方法快速、简便但其计算结果与非均匀场有一定的区别.在对液晶显示动态模拟时均匀场方法可以用于定性分析而不适宜定量计算.
20.大陆TFT-LCD业何时能抗衡日韩与台湾?
- 杨云高
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：大陆TFT业能与日韩、台湾相抗衡的,只有寄望于京东方与上广电.TFT业有"后来居上"的历史故事,京东方与上广电能重演吗?"在技术、资金与管理上,京东方和上广电都有很大的操作空间,比如吸引外来的工程师,集中整合优势资源,要特别注重学习台湾业者的成功经验."金波的结论是,韩国与台湾TFT仍维持强势,日本将淡出,大陆TFT有望于2008年抗衡日韩与台湾.
21.单体平均官能度对制备液晶/聚合物光栅的影响
- 刘永刚;马骥;宋静;胡立发;宣丽
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：液晶/聚合物光栅,即全息聚合物分散液晶光栅(Holographic polymer dispersed liquid crystal,HPDLC)是一种新型光电子信息功能器件.本文采用紫外光固化丙烯酸脂和向列相液晶TEB30A制备了透射HPDLC型光栅,探讨了单体平均官能度对液晶/聚合物光栅的影响.实验将官能度分别为2.0和5.0的两种单体混合,使平均官能度从2.0到5.0变化,制备出系列HPDLC透射型光栅,通过观察光栅形貌、测量光栅的衍射效率及驱动电压,分析了相分离过程中的光聚合速度和液晶扩散速度的匹配问题.
22.6SIGMA在SFCD单聚焦电子枪设计开发的应用
- 刘仙娟;王群;王达兴;张书令
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：设计开发适用于纯平单聚焦彩色显像管的核心部件SFCD单聚焦电子枪,正确合理应用正交试验法,对动态电子枪进行结构改进试验,找到最佳试验组合方案,同时运用头脑风暴法,想方案,并且尽一切可能完成预想的方案测试与试验,使产品成功完成设计定性,缩短了开发周期,并具备了量产能力,成本大大降低,同时满足了顾客关注的要求.
23.LCD相关材料产业现状
- 高鸿锦
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：从世界范围来看,液晶显示产业方兴未艾,发展热头正旺.预计今后十年、二十年液晶显示器都将是平板显示的主流产品.我国液晶显示行业尽管也走过了二十多个年头,有了一定的基础.但与先进国家与地区相比差距还很大,要迎头赶上,还只能算刚刚开始.液晶显示相关材料对于器件产业的发展至关重要.我们在这方面总体讲,还很落后,还有许多薄弱环节,应当引起各方重视.
24.OLED驱动控制电路及针对其帧频问题的CPLD改进设计
- 曾衡东;王涛;蒋亚东;章睿
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：本文首先简要介绍了一种以89C52单片机为控制核心的有机电致发光矩阵显示屏驱动控制电路,并对限制其帧频提高的原因做了剖析,在此基础上提出了一种改进设计方案,通过Xilinx foundation series开发平台,得到了相关信号的时序仿真图,并用CPLD做了硬件实现.结果分析表明,该设计在硬件开销极小的情况下大幅度提高了频率.
25.等离子显示器(PLASMA DISPLAY PANEL)中MgO(氧化镁)蒸镀工艺的进展——真空电子束蒸镀与MgO(氧化镁)材料
- 盛庭
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：本文评述了近年来PDP工艺中的MgO(氧化镁)保护膜制作的技术进展,重点讲座了电子束蒸镀法与其它保护膜制作工艺的区别以及影响电子束蒸镀的各种因素及真空技术的应用.另外,也讨论了电子束蒸镀法使用靶材——MgO(氧化镁)的各种物理特性等.
26.彩色STN-LCD用高分辨率正型光刻胶的探讨
- 梁魁文
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：在彩色STN-LCD的制作上,对制程与材料设备的要求有别于一般的TN-LCD,其中ITO线幅的均匀性对其显示的品质有重大的影响,若ITO阻值的均匀性不佳将会导致工作电压漂移、LCD加电显示对比度不一致,视觉上感觉深浅不一,大大降低显示画面的品质.因此,有好的光刻胶将可以协助改善形成电极时ITO线路不均的现象,提升LCD显示画面的品质. 本文就以长兴化工长期开发LCD用正型光阻的经验,做一个基本的介绍.
27.从日本LCD技术标准体系得到的启示
- 郑圣德;张宏勇;汪光裕
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：标准化文件是产业发展的基础.目前,LCD的国际标准主要有IEC的61747与61966标准和ISO的9241与CD13406标准,但都还没有形成体系.日本是LCD(尤其是TFT)的生产强国和发源地,在LCD的产业化实践中积累了许多经验和教训,其技术标准已初步自成体系.作者根据多年亲自参与日本TFT产业化活动中的一些体会,介绍日本LCD技术标准的制定过程和现行标准体系,建议我国在制定LCD标准过程中应注意哪些问题和可采取的哪些实际步骤,目的是提供信息产业部和业界人士在决策时参考.
28.ITO表面处理对OLEDs器件性能的影响
- 蒋玉蓉;薛唯;喻志农
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：作为OLED<,s>的一个主要部分,ITO的表面形貌以及表面性能,对整个器件的性能起决定性作用.我们分别采用超声波清洗、O<,2>Plasma、UV-ozone方法对ITO的表面进行处理,用原子力显微镜(AFM)观测了处理后ITO的表面形貌,并用不同方法处理的ITO制作了结构为ITO/NPB/Alq<,3>/Al的电致发光器件,比较了各种方法对器件性能的影响.结果表明这些方法可以改变ITO的表面化学成分以及结构,大幅度的提高器件的亮度、寿命以及稳定性,尤其是氧离子轰击最为有效的.
29.LCoS微显示晶片的研究与开发
- 耿卫东;代永平;孙锺林;周超然;董文广
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：LCoS是一种特殊的积體电路晶片,在大萤幕投影显示和微型显示方面具有巨大的市场應用前景.本文设计了SVGA解析度的LCoS晶片,在国内积體电路制造工厂流片,开发了LCoS显示模组,实现了电脑VGA、VCD、DVD等的视频图像显示.
30.L-P3101型感光抗蚀油墨在LCD图形制造中的应用
- 李春甫
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：本文详述了L-P3101感光抗蚀油墨在LCD的ITO层上进行图形制造的全过程.同时对机理、工艺参数和质量保证也进行了讨论.
31.OLED寿命自动测试系统组建
- 费君辉;徐奕斐;徐洪光;沈良;余峰;刘逸忠
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：OLED各项光电性能测试在研发和生产中对器件性能的分析和对工艺进一步优化提供重要依据.近期在实验室使用Keithley的仪器搭建OLED测试系统来实现各种OLED的测试需要.文章主要介绍Keithley仪器搭建OLED寿命测试系统以及相关问题的讨论.
32.OLED用ITO导电玻璃技术要求和制造方法
- 金弼;李志贞
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：OLED用ITO导电玻璃的技术要求有,降低ITO薄膜的微观表面粗糙度、进一步降低ITO的面电阻、要求在ITO之上还要镀金属导电膜、严格控制表面缺陷.相应的制造技术包括,改善表面粗糙度的软抛光方法、离子镀ITO膜技术、DC/RF溅射镀膜方法等;改善面电阻方法包括改善了的镀膜方法、增加金属膜层、采用超低电阻膜层结构等.
33.STN-LCD结构参数对低阈值电压产品高温可靠性的影响
- 王晓燕;孔浩
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：本文讨论了STN-LCD结构设计参数对低阈值电压产品高温可靠性的影响.通过正交试验分析了STN-LCD结构设计参数对低阈值产品高温可靠性影响的重要性,并找出了这些结构参数的最佳设计值.从中可以看出,正交试验是改进STN-LCD结构设计的一个有效方法.
34.TFT-LCD技术发展趋势简析
- 陈冰峡
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：从TFT-LCD产业链角度分析,TFT-LCD技术包括上游材料技术、中游面板(模块)生产技术以及下游产品应用技术.本文着重分析TFT-LCD中游面板生产制造过程中的技术、工艺发展趋势.
35.TPA-PPV纳米粒子的制备和尺度效应
- 王震宇;中国科学院化学研究所;于贵;刘云圻;曹灵超;徐新军;吴玉英;朱道本
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：本文用再沉淀的方法制备了一系列尺寸的TPA-PPV纳米粒子(20-100nm),用场发射扫描电镜对粒子的尺寸和形貌进行了表征,研究了不同尺寸纳米粒子紫外-可见吸收光谱和荧光光谱,结果表明随着纳米粒子尺寸的减小,紫外-可见吸收光谱和荧光发射光谱均发生了蓝移.
36.YAG激光晶化多晶硅初探
- 刘建平;王海文;李娟;张德坤;赵淑云;吴春亚;熊绍珍;张丽珠
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：激光晶化是目前制备低温多晶硅(LTPS)的重要手段.本文报道了采用YAG脉冲激光器对硅基薄膜进行晶化制备多晶硅的初步实验结果.其中主要针对不同驱物(如为PECVD法制备的非晶硅或微晶硅)以及对激光能量的利用等问题进行了分析研究.实验发现,晶化需要基本的阈值能量流密度.晶化硅基前驱物材料的结构,是决定此阈值的关键.延迟降温速率可能对激光晶化是一种较为有效的手段.对所得的初步结果进行了讨论.
37.半反半透型彩色滤光片技术新发展
- 胡春和;王志洁
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：移动产品用彩色显示器,要求在明暗两种环境下都具有高的色彩饱和度和亮度.采用颜色调整工艺制作的半反半透型彩色滤光片,通过调节透射区和反射区膜厚或者通过调节反射区颜色开孔率,很好地兼顾了反射和透射性能,解决了高亮度与高色彩饱和度的矛盾.
38.采用光学干涉方法实现高对比度聚合物发光二极管
- 刘宏宇;邵明;孙润光
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：在PLED玻璃衬底和ITO阳极之间溅射一层光学干涉层,该光学干涉机构可以部分消去背景光的反射.这种方法不需要考虑光学干涉层和OLED或PLED材料之间功函数匹配,以及在溅射过程中对有机层的损伤等问题.制作的器件的对比度是14.7:1,进一步对器件的优化有望达到一个实用化目标.
39.微晶硅薄膜起始层的研究及其底栅薄膜晶体管的探索
- 李娟;张晓丹;吴春亚;刘建平;赵淑芸;赵颖;孟志国;熊绍珍;张丽珠
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：底栅微晶硅薄膜晶体管的有源层不仅要具有高的晶化率还应该尽量减薄非晶相的起始层.采用降低硅烷浓度的方法简便有效地减薄了起始层的厚度,得到起始层厚度小于20nm、霍耳迁移率大于5cm<'2>/V<,-s>的微晶硅薄膜.以2﹪的硅烷浓度、采用四版工艺制备了底栅微晶硅TFT,对这种微晶硅TFT进行了初探.经贯通工艺的实验,获得开关比(I<,on>/I<,off>)在5个数量级以上,场效应迁移率大于1cm<'2>/V<,-sec>,阈值电压约为5V的初步结果.
40.席夫碱及其锌配合物的合成和发光特性
- 赵哲辉;于贵;狄重安;孙晓波;李楠;刘云圻;朱道本
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：合成了两种席夫碱DEDP、DEDN,及其锌的配合物ZnDEDP、ZnDEDN,其中DEDP是2-[(4-二乙铵基-苯亚胺)-甲基]-苯酚,DEDN是3-[(4-二乙铵基-苯亚胺)-甲基]-萘-2-醇.研究了它们荧光特性,同时利用ZnDEDN制备了结构力ITO/PVK:ZnDEDN/BCP/Alq<,3>/LiF/Al的器件,器件的最大发光效率为0.19cd/A,最大亮度为143cd/m<'2>.
41.新型聚合物网络稳定液晶光栅的制备
- 宋静;马骥;刘永刚;宣丽
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：将具有光敏特性的预聚物与向列相液晶按一定比例混合,注入液晶金,以紫外灯为光源,通过光掩膜法,使混合物在紫外光的引发下产生相分离,形成液晶/聚合物网络稳定光栅.采用光学显微镜和He-Ne激光器进行测试,结果表明该光栅获得了较清晰的栅结构,实现了衍射率先增加后减小的调制作用.该光栅制作方法简便,驱动电压低.在光通讯器件、衍射光学、投影显示、光开关等领域有广泛的应用前景.
42.用金属诱导-准分子激光晶化法制备多晶硅薄膜
- 廖燕平;邵喜斌;吴渊;骆文生;付国柱;荆海;马凯
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：与晶体硅晶格匹配,因此它能在接下来的ELA中起到籽晶的作用.这个方法不但提供了晶粒稳定生长条件,而且也可能使激光的晶化能量展宽.">本文提出了一种新的晶化方法——金属诱导准分子激光晶化法(MI-ELA).这个方法在制备多晶硅(p-Si)薄膜中包括两上步聚:第一步是用镍金属诱导方法通过热退火形成NiSi<,2>;第二步是再通过ELA方法晶化形成p-Si,通过XRD,Raman与SEM表征,此方法制备的p-Si薄膜比用ELA方法在同一条件下制备的具有更大的晶粒度和粒度均一性,以及更高的晶化度,用"MI-ELA"方法制备p-Si的机制是基于用MIC方法在420 C左右热退火形成的NiSi<,2>与晶体硅晶格匹配,因此它能在接下来的ELA中起到籽晶的作用.这个方法不但提供了晶粒稳定生长条件,而且也可能使激光的晶化能量展宽.
43.用平行相列液晶空间光调制器制作相息图的研究
- 胡立发;刘永军;曹召良;穆全全;李大禹;刘永刚;彭增辉;宣丽
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：利用液晶空间光调制器制作相息图是目前唯一的一种能实现动态实时计算全息的方法,它在光信息处理和光学测量方面具有重要的应用价值.本文首先介绍了平行向列液晶空间光调制器,它是由低成本的商业液晶电视改造而成的,随后在液晶空间光调制器上制作了相息图,最后对利用液晶电视制作的相息图再现物体,通过误差分析,我们认为位相失配和液晶屏的黑栅效应是导致再现像不清晰的主要原因.最后探讨了它在位相滤波器方面的应用.
44.有机电致发光显示器(OLED)动态图像驱动显示技术
- 徐奕斐;费君辉;余峰;刘逸忠;徐进;孙鸣
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：当前平板显示器件日新月异,作为平板显示器件的新贵OLED显示屏国内还尚处于研制阶段,对于该显示器件电路驱动的制作国内也刚起步,而在OLED显示屏上滚动播放一定时间的动态视频图像,国内更是尚未有此技术.本文正是针对这一空白,提出该技术的实现.此技术特别适用于展示OLED显示器广视角,高对比,高亮度,快速反应,高流明效率等诸多优点,更能用来综合检验OLED显示器的性能,使OLED显示器件的后道检验工序得以更好的实现.
45.增加暂存器以消除平板显示器中的亮度损失
- 陈章进;冉峰;徐美华;郑昌陆;季渊
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：在平板显示器串行扫描中,只有一级锁存器的驱动电路在提高灰度等级的同时将带来亮度损失,本文通过增加一个暂存器,可以有效地消除这种亮度损失,并相当幅度地提高显示性能,为适应本方法,本文同时对新的驱动芯片设计提出要求.
46.直流磁控反应溅射制作Ta<,2>O<,5>的工艺和电学特性研究
- 徐毅;曹兆铿;刘逸忠;肖田;李德杰
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：在做完底电极的玻璃上,在氩气和氧气的混合气氛中用钽靶直流磁控反应溅射沉积五氧化二钽.用XPS分析了膜的杂质、Ta和O的摩尔比和结合能,并用MIM结构测试了电学性能.随着氩氧比的变化其介电常数在19到68范围内变化,质量好的薄膜(在氧氩比为1:1时获得的薄膜)在0.5MV/cm的电场下其漏电密度小于10nA/cm<'2>,击穿场强高于2MV/cm.
47.自组装膜的光控取向研究
- 彭增辉;胡立发;刘永刚;鲁兴海;宣丽
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：利用脱水反应使含有脂肪族羧酸基团的光敏化合物在玻璃(或石英)基板表面形成自组装单层膜.用偏振紫外光照射光敏性自组装膜,自组装膜中的香豆素基团发生定向[2+2]周环反应,形成表面张力各向异性的薄膜.用它作为向列相液晶取向膜制成面内平行取向的液晶器件,在偏光显微镜下观察到均一、稳定的取向效果.为检测自组装光控取向膜的热稳定性,观测了热处理后的取向效果,发现该取向膜可以承受130℃的热处理温度.
48.改善LCD电极底影的光学设计(p82-84)
- 程鸿飞;董友梅
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：本文运用光学理论计算的方法,对LCD盒内几个膜层(ITO层,取向层PI,绝缘层SIO<,2>)厚度参数对LCD ITO电极底影的影响,做出定性定量的分析.
49.改善LCD电极底影的光学设计(p85-88)
- 程鸿飞;董友梅
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：本文运用光学理论计算的方法,对LCD盒内几个膜层(ITO层,取向层PI,绝缘层SIO<,2>)厚度参数对LCD ITO电极底影的影响,做出定性定量的分析.
50.红色有机电致发光显示器发光效率和色纯度的优化
- 徐洪光;庄筱磊;费君辉;余峰;沈良;胡忠;刘逸忠
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：本文从实验生产的角度出发,研究了不同掺杂浓度下Alq<,3>:DCJTB系统的红色OLED器件,综合考虑了掺杂浓度、发光效率和色纯度这三者之间的关系,优化红色OLED器件的制作工艺,制备了高效率、高色饱和度的红光器件,为生产制作红光OLED器件做准备.
51.厚膜工艺制作纳米碳管场发射显示器(CNT-FED)的几种三极管型结构的研究
- 刘红君;谢晓
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：文中描述了用丝网印刷的方法制作正栅极、背栅极<'1>和侧栅极三极管型纳米碳管场发射显示器件,介绍了它们的制作工艺、所需材料要求,并建立模型进行ANSYS电场分布模拟,并对以上结构进行了比较分析.
52.化学源金属诱导多晶硅研究
- 赵淑云;光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学;吴春亚;光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学;李娟;光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学;刘建平;光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学;孟志国;光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学;熊绍珍;光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：本文报道了用化学源的硅基薄膜金属诱导晶化的试验结果.对于用不同方法沉积得到的非晶硅膜,都能予以晶化.当用不同浓度化学源的金属诱导,晶化效果也存在一定差别.退火气氛亦会对晶化结果产生某些影响.最后对物理源与化学源作诱导金属的晶化结果进行了比较,结果表明,对诱导金属源而言,化学源显示出更为有效的晶化趋势.这些初探给我们的启示是,对金属诱导晶化多晶硅的研究远未止境.
53.基于有机电致发光显示的透明导电膜ITO研究
- 占红明;饶海波;张化福
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：系统论述了ITO作为OLED器件阳电极时,ITO各参数对OLED整体性能,如发光亮度、效率、寿命和稳定性的影响,并以溅射ITO工艺为例,分析了制备与处理环境对ITO的方阻、透过率、表面平整度及功函数的影响.针对其成因,提出了一些改进措施.对高性能平板显示OLED器件用透明导电阳极的研制具有一定的参考价值.
54.金属诱导多晶硅TFT及其有源驱动基板的研究
- 吴春亚;光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学;孟志国;光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学;熊绍珍;光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学;王文;郭海成
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：本文采用金属诱导单一方向横向晶化法(MIUC)进行了多晶硅薄膜晶体管的研究.将薄膜晶体管有源岛制作在镍剩余量较低的横向晶化区;并采用优化的工艺流程,将镍剩余量较高的区域从器件中移出,从而获得高迁移率、高开关比、低域值电压的单栅结构多晶硅薄膜晶体管.以p型MILC poly-Si TFT为基础,采用两管象素单元电路,制备出象素数为160×RGB×120、开口率为46﹪的2.1英寸彩色OLED有源选址基板.用此基板制作的AM-OLED,得到了良好的视频显示效果.
55.可溶性PPV衍生物电致发光器件的研究
- 刘畅;汪敏;黄维
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：PPV类聚合物具有良好的电致发光性能,由于具有较高分子量可形成高质量薄膜,是聚合物电致发光器件发光层的首选材料之一.本文合成了一种PPV衍生物(MEH-PPV),以它作为发光层材料,通过正交试验方法确定了适宜的旋涂条件,在最佳的操作条件下制备了发光性能较好的单层、双层和三层聚合物电发光器件,通过测量和比较各类器件的光电性能,分析其内在的发光机制.
56.棱镜辅助晶体旋转法测试液晶器件大预倾角
- 沈奕;王海飞;李永忠
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：晶体旋转法是测试液晶分子预倾角的常用方法,但是不适用于测试20°~60°之间的预倾角.为了达到扩展晶体旋转法预倾角测试仪的适用范围,本文提出一种棱镜辅助晶体旋转法预倾角测试方案的原理,并给出数值模拟结果.
57.平板显示器时序控制电路IP核的设计
- 耿卫东;代永平;李阳;商广辉;孙钟林
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：本文介绍了一种平板显示器接口电路通用扫描时序控制器IP核,主要由时钟发生器和扫描控制器组成.时钟发生器采用直接数字频率合成(DDS)方法,根据配置寄存器的设定值,可以输出不同的频率的时钟.扫描控制器可以输出平板显示器所需要的行、场控制信号.并且介绍了基于FPGA的各单元电路的设计和实现方法.
58.全集成AM-OLED显示模块设计
- 马海英;光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学;徐步衡;光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学;吴春亚;光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学;孟志国;光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学;熊绍珍;光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学;张丽珠
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：本文介绍了利用低温多晶硅(LTPS)TFT作为基本驱动单元的一款全集成AM-OLED屏,其有效显示尺寸1英寸,像素数为80*60*3(RGB).针对这种新型的全集成AMOLED屏,利用半定制FPGA,采用四分场时间比率模式的16级灰度显示方案,设计并制作了显示接口电路板.本驱动方案可以兼容VGA信号与DVI信号,并且在FPGA中嵌入了自行设计的I<'2>CIP核.该方案已经通过实际电路验证了它的可行性.
59.全息法制备二维电调谐聚合物/液晶光栅
- 马骥;阮圣平;刘永刚;胡立发;彭增辉;曹召良;宣丽
- 《2004中国平板显示学术会议》 | 2004年
摘要：利用激光干涉形成的亮条纹引发预聚物/液晶的混合物相分离,相分离稳定后,干涉图样被记录在聚合物/液晶复合膜中,被称为全息聚合物分散液晶光栅.本文在对样品进行一次曝光之后,将样品绕着基板中心的法线方向转动一定的角度(如90度),再进行一次曝光,获得格子结构的聚合物/液晶二维光栅.实验结果表明,光栅中的聚合物和液晶在二维空间上呈周期分布,其衍射图样为空间点阵且衍射效率可以利用电场进行调节.