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王成成; 周龙达; 蒲石; 王芳; 杨红; 曾传滨; 韩郑生; 罗家俊; 卜建辉;
中国科学院微电子研究所 北京 100029;
中国科学院硅器件技术重点实验室 北京 100029;
中国科学院大学 北京 100049;
航空工业西安航空计算技术研究所 陕西 西安 710065;
中国科学院微电子器件与集成技术重点实验室 北京 100029;
负偏压温度不稳定性; PDSOI; 快速测试方法; 阈值电压; 寿命预测; 可靠性;
机译:在兼容CMOS的SOI上完全耗尽和部分耗尽的SiGe HBT中的X射线辐照和偏置效应
机译:模拟完全耗尽,部分耗尽和人体接地的SOI MOSFET的浮体效应
机译:前氧化物质量对部分耗尽和完全耗尽的SOI N-MOSFET的瞬态效应和低频噪声的影响
机译:SOI分流场效应霍尔传感器在部分耗尽模式下的研究
机译:完全耗尽的SOI MOSFET中的浮体效应。
机译:FinFET和带铁电电容器的全耗尽绝缘体上硅(FDSOI)MOSFET的磁滞窗口研究
机译:在从部分耗尽到完全耗尽操作的过渡期间,垂直mOsFET中的耗尽隔离效应
机译:全耗尽sOI(绝缘体上硅)mOsFET的短沟道效应
机译:集成以SOI技术形成的完全耗尽和部分耗尽的场效应晶体管
机译:制造完全耗尽型绝缘体上硅(FD-SOI)和部分耗尽型绝缘体上硅(PD-SOI)器件的方法
机译:完全耗尽型绝缘体上硅(FD-SOI)和部分耗尽型绝缘体上硅(PD-SOI)组合器件
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