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杨武保; 范松华; 戈敏; 张谷令; 沈曾民; 杨思泽;
中国石油大学机电学院,北京,102249;
中国科学院物理研究所,北京,100080;
北京化工大学碳纤维研究所,北京,100029;
高能等离子体; CVD法; 纳米碳膜; 衬底材料;
机译:特别问题:大气压等离子体CVD法的人工膜材料常温和杂交二氧化硅膜的常温和压力膜的新型。
机译:使用金属有机前体的等离子体辅助液体注入(PA-LI)CVD技术制备纳米晶氧化钇膜
机译:微波等离子体辅助CVD制备金刚石/碳化钨复合膜
机译:等离子体CVD法制备纳米碳膜电特性评价
机译:微波等离子体辅助CVD多晶金刚石膜在较高压力条件下的沉积。
机译:在一个反应器中通过等离子体增强的ALD和CVD制备的有机-无机薄多层膜的防潮性能
机译:等离子体辅助(MO-CVD)制备氧化铁膜。
机译:通过mOCVD制备的陶瓷外延膜和多层膜。
机译:等离子体CVD法,氮化硅膜的形成方法,半导体装置的制造方法以及等离子体CVD法
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