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机译:使用金属有机前体的等离子体辅助液体注入(PA-LI)CVD技术制备纳米晶氧化钇膜
Department of Chemistry, Loyola Institute of Frontier Energy, Loyola College, Chennai 600 034, India School of Engineering Sciences and Technology, University of Hyderabad, Hyderabad 500 046, India;
Department of Chemistry, Loyola Institute of Frontier Energy, Loyola College, Chennai 600 034, India School of Engineering Sciences and Technology, University of Hyderabad, Hyderabad 500 046, India;
Department of Chemistry, Loyola Institute of Frontier Energy, Loyola College, Chennai 600 034, India School of Engineering Sciences and Technology, University of Hyderabad, Hyderabad 500 046, India;
yttrium CVD precursors; powder XRD; CVD; thin films; scanning electron microscopy (SEM);
机译:Tris(2,4-pentanedionato)scan(III)作为等离子体辅助液体注入CVD沉积纳米晶Scandia薄膜的前体
机译:等离子体辅助液相注入化学气相沉积法制备纳米晶Cu-Ni薄膜
机译:通过液体注入MOCVD在硅衬底上生长Ti-ta-o薄膜并对其进行表征,用于改性钛和钽前体的高k应用
机译:N,N'-不对称取代的1,3-ami基酸酯和1,3-胍基酸酯的分子结构对HfO_2薄膜前驱体的挥发性和热稳定性的影响
机译:通过热线和ECR-等离子CVD技术制备的纳米晶硅薄膜太阳能电池的结构和电子性能。
机译:在B(CH3)3存在下用氢等离子体处理通过RF-PECVD生长的非常薄的p型纳米晶Si膜
机译:热线和ECR-等离子CVD技术制备的纳米晶硅薄膜太阳能电池的结构和电子性能
机译:用新型mOCVD(金属有机化学气相沉积)技术制备用于光电转换的薄膜:年度分包报告,1985年2月15日至1985年4月15日