特集人工膜材料の新展開大気圧プラズマCVD法によるハイブリッドシリカ膜の常温常圧製膜

摘要

シリカ膜は，三次元的なシロキサン結合ネットワーク構造が形成するサブナノ細孔を持ち，分子の大きさの違いを利用した分子ふるい効果による分離が可能である．シリカ膜の代表的な製膜法としては，ゾル－ゲル法と化学気相蒸着（CVD）法の2つが挙げられるが，いずれの製膜法においても製膜温度が重要な操作因子であり，安定別莫を得るには焼結や熱分解反応を高温で促進する必要がある．