リモートプラズマによるシリカ膜の常圧CVD製膜

摘要

大気圧非平衡プラズマは，常温常圧で高密度な反応活性場を容易に形成できる放電技術である．我々は，hexamethyldisiloxane（HMDSO）を前駆体に用い，大気圧プラズマCVD法による気体分離性を有するシリカ膜の製膜を行ってきた［1】．本研究では，透過特性の制御を目的として，異なる分子構造を持つ前駆体を用いて製膜を行い，その気体透ゴ過特性の評価を行った．