silicon; elemental semiconductors; nanostructured materials; semiconductor growth; plasma CVD; low-temperature techniques; laser materials processing; semiconductor thin films; gas lasers; Si-nanostructures; low-temperature growth; laser-assisted plasma enhanced chemical vapor deposition; CO/sub 2 /laser; SiH/sub 4/ molecules; photon absorption; decomposition; CO/sub 2/; Si;
机译:CO2激光对低温激光辅助等离子体增强化学气相沉积法制备的SiNx薄膜的影响
机译:使用激光辅助化学气相沉积和激光辅助等离子体增强化学气相沉积的两步制造,用于长寿命有机发光二极管
机译:等离子体增强化学气相沉积法制备多层石墨烯的低温生长机理
机译:通过常规等离子体激光辅助的Si-纳米结构的低温生长增强化学气相沉积
机译:等离子体增强了硅薄膜的化学气相沉积:利用等离子体诊断技术表征不同频率和气体成分下的薄膜生长。
机译:低温生长条件下共沉积双金属催化剂上等离子增强乙炔的化学气相沉积增加石墨烯片的连续性
机译:乙炔的等离子体增强的化学气相沉积在保加素的双金属催化剂上,在低温生长条件下增加石墨烯片连续性