用于低温生长石墨烯的微波等离子体辅助化学气相沉积系统

摘要

化学气相沉积（CVD）是一种重要的薄膜制备工艺,其中微波等离子体辅助化学气相沉积（MP-CVD）被广泛用于制备纳米功能薄膜、硬质薄膜和光学薄膜.介绍一种普适型2.45 GHz微波的MP-CVD系统,包括硬件配置、自动控制软件等,并采用该系统在低温条件下制备高质量石墨烯薄膜.