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通过等离子体增强化学气相沉积法生长石墨烯纳米带的方法和系统

摘要

一种形成石墨烯纳米带的方法,包括:提供基板,所述基板包括铜箔或泡沫镍中的至少一者,并将所述基板置于处理腔室中的减压环境中。所述方法还包括提供甲烷气体和1,2‑二氯苯(1,2‑DCB)气体,使甲烷气体和1,2‑DCB流入所述处理腔室中,并在所述处理腔室中建立1,2‑DCB气体与甲烷气体的分压比。所述分压比在0和3之间。所述方法进一步包括:生成等离子体,之后,将所述基板的至少一部分暴露于甲烷气体、1,2‑DCB气体和等离子体,和将耦合到所述基板的至少一部分的石墨烯纳米带进行生长。

著录项

  • 公开/公告号CN109553092A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-04-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 加州理工学院;

    申请/专利号CN201811125169.4

  • 发明设计人 徐诚志;叶乃裳;

    申请日2018-09-26

  • 分类号C01B32/186(20170101);B82Y30/00(20110101);B82Y40/00(20110101);

  • 代理机构11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司;

  • 代理人徐金国;吴启超

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2024-02-19 07:20:05

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-04-02

    公开

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