III-V semiconductors; MOCVD; aluminium compounds; arsenic compounds; gallium compounds; indium compounds; quantum well lasers; AlAs; InGaAs; current 12.8 mA; low-threshold continue-wave operation; metalorganic chemical vapour deposition; native-oxide layer; oxide-con;
机译:硅上的极低阈值电流密度InGaAs / AlGaAs量子阱激光器
机译:通过选择性区域MOCVD在低成分InGaAs衬底上的应变层InGaAs-GaAs-InGaP埋入异质结构量子阱激光器
机译:通过MOCVD生长的低阈值台面蚀刻垂直腔InGaAs / GaAs表面发射激光器
机译:InGaAs量子孔激光器的极低阈值继续波操作,用MOCVD生长的ALAS天然氧化物层
机译:短波长铟铝镓磷化镁井激光器和磷化铟量子点耦合到应变铟铝镓磷化钯量子孔孔孔,由MOCVD种植
机译:通过采用光学光谱分程利用基于INP的量子级联激光器的InGaAs层的非接触式测量
机译:低阈值应变补偿InGaas(N)(λ=1.19-1.31μm)量子阱激光器
机译:具有GaInp包层和质量传输埋层异质结构的低阈值InGaas应变层量子阱激光器(λ= 0.98微米)