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确定光刻掩模的对线宽的波动的与结构无关的贡献的方法

摘要

为了确定光刻掩模(5)对线宽的波动的与结构无关的贡献,以空间分辨的方式评估光刻掩模(5)的非结构化测量区域的记录的2D强度分布(15zi)。

著录项

  • 公开/公告号CN110174821B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-07-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 卡尔蔡司SMT有限责任公司;

    申请/专利号CN201910135818.7

  • 申请日2019-02-21

  • 分类号G03F7/20(20060101);

  • 代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人王蕊瑞

  • 地址 德国上科亨

  • 入库时间 2022-08-23 12:12:15

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