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机译:掩模移位和掩模旋转的光刻技术制备亚微米结构的新方法
double exposure lithography; double pattering lithography; optical lithography; optical mask shifting;
机译:掩模移位和掩模旋转的光刻技术制备亚微米结构的新方法
机译:使用柔性铬涂层聚合物掩模的旋转紫外线 - 用于制造微结构化牙科植入物表面:概念证明
机译:激光微透镜阵列光刻相移掩模制备的周期性纳米结构图案。
机译:用于深亚微米光刻的可变相移掩模
机译:用于相移掩模设计的广义逆光刻方法。
机译:孔罩胶体纳米光刻技术与倾斜角旋转蒸发相结合:一种低成本大面积复杂等离激元纳米结构和超材料的通用制造方法
机译:使用柔性铬涂层聚合物面罩的旋转紫外线 - 用于制造微结构化牙科植入物表面:概念证明
机译:使用光学光刻和相移掩模制造的红外频率选择表面