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无掩模光刻技术的前景

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摘要

介绍了无掩模光刻技术的现状、存在的问题和前景展望;说明了无掩模光刻技术的最大优点即是降低掩模成本;同时还介绍了电子束光刻技术及其改进.

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来源
《电子工业专用设备》|2005年第8期|1-3|共3页
作者
翁寿松; 缪彩琴;
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作者单位

无锡市罗特电子有限公司,江苏,无锡,214001;

无锡机电高等职业技术学校,江苏,无锡,210428;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类光刻、掩膜;
关键词
无掩模光刻; 电子束光刻; 掩模版;

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