Institute for Physics of Microstructures Russian Academy of Sciences (IPM RAS), GSP-105, Nizhny Novgorod, 603950, Russia;
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Maskless X-ray lithography; EUV lithography; micro-electro-mechanical system; MEMS; multilayer mirror; imaging; roughness; stress;
机译:ArF水浸式光刻技术的后续产品:EUV光刻技术,多电子束无掩模光刻技术还是纳米压印技术?
机译:无掩模EUV光刻技术,替代电子束
机译:高NA EUV光刻中的波导效应:将EUV光刻扩展到4 nm节点的关键
机译:掩盖(B)EUV光刻的问题与前景
机译:用于无掩模EUV光刻的纳米镜的设计,制造和光学分析
机译:LBL纳米复合薄膜的直接写入无掩模光刻及其对MEMS技术的前景
机译:LBL纳米复合薄膜的直接写入无掩模光刻及其对MEMS技术的前景
机译:光化掩模成像:sHaRp EUV显微镜的最新结果和未来方向。会议:极紫外(EUV)光刻V,加利福尼亚州圣何塞,2014年2月23日;相关信息:期刊出版日期:2014年4月17日。