机译:用于EUV光刻的面膜空白的制造方法,用于EUV光刻的具有多层反射膜的基板的制造方法,用于EUV光刻的面膜的制造方法以及用于EUV光刻的转移膜的制造方法
公开/公告号JP2014199847A
专利类型
公开/公告日2014-10-23
原文格式PDF
申请/专利权人 HOYA CORP;
申请/专利号JP20130073801
申请日2013-03-29
分类号H01L21/027;G03F1/24;G03F1/60;B24B37/08;B24B37/11;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 16:18:35