下一代光刻技术—极紫外光刻(EUV)

摘要

本文讨论了光学光刻进一步发展遇到的技术问题,介绍了下一代光刻——极紫外光刻(EUV)的关键技术,并从整机研制考虑,初步探讨了各关键单元技术设计指标.