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左保军; 祝东远; 张树青; 李润顺;
哈尔滨工业大学空间光学工程研究中心,黑龙江,哈尔滨,150001;
光刻; EUV; 垂直入射式; 掠入射式; 收集效率; 内嵌式; WolterⅠ型;
机译:ArF准分子激光光源和EUV光刻技术的发展现状
机译:EUV光刻技术的数量新的发展趋势-大功率,长寿命,高稳定性光源的开发是一个问题
机译:Gigaphoton的最新ArF准分子激光DPL与更高的输出兼容并提高了稳定性下一代EUV光源技术的发展
机译:EUV的进展阻碍了高NA EUV光刻技术的发展
机译:互联交通系统:下一代交通模拟和数据收集工具和技术=互联交通系统:新一代交通模拟和数据收集工具和技术
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机译:EUV(极端超紫色)光源研究的现状和未来4.Aser产生的等离子体光源4.1激光产生的等离子体EUV源开发
机译:伯克利先进光源的软X射线光刻技术。诉讼。
机译:具有用于反射层的EUV光刻技术,用于反射掩模坯料的EUV光刻技术,用于反射掩模的EUV光刻技术,以及具有反射层的衬底的制造方法。
机译:具有多层反射膜,EUV光刻技术的反射面膜空白,EUV光刻技术的反射面膜,及其制造方法以及制造半导体器件的方法
机译:EUV光刻技术及其制造方法的反射面罩,以及EUV光刻技术及其制造方法的反射面罩
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