下一代光刻技术--压印光刻

摘要

论述了集成电路制造中光刻环节的重要性和阻碍因素,介绍了下一代集成电路制造工艺--压印光刻技术.通过对压印原理分析,对比了热压印、常温压印工艺的技术特点,论述了压印过程中的关键技术一压印对准系统、下压系统.最后,介绍了SIL-Ⅰ型分步式常温紫外光固化压印机的结构特点、精度指标及部分试验结果.