退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
机译:使用极紫外(EUV)的基本光刻技术
老泉 博昭;
机译:光学光刻技术的局限性和对极端紫外光刻技术的期望-其发展历史和未来发展-
机译:光学光刻技术的限制和极端紫外线光刻技术的预期 - 其发展和未来发展的过程 -
机译:大阪大学等开发了将下一代半导体的制造速度提高10倍以上的技术。
机译:用光刻技术开发微观毛发结构的双极静电卡盘
机译:电子束写入技术的大规模半导体集成电路光刻研究
机译:通过细颗粒自组装和热光刻技术开发微结构光学元件的制造技术
机译:热固性树脂组合物及其使用的预浸料,带有树脂的金属箔,树脂膜,覆金属层压板和配线基板
机译:用于边缘光型背光源的白色反射膜和使用它的液晶显示器背光源
机译:客户,程序和方法,基于可见的分辨率来确定交付资料
抱歉,该期刊暂不可订阅,敬请期待!
目前支持订阅全部北京大学中文核心(2020)期刊目录。