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Annual BACUS Symposium on Photomask Technology
Annual BACUS Symposium on Photomask Technology
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1.
Full-chip level MEEF analysis using model based lithography verification
机译:
采用基于模型的光刻验证的全芯片级MEEF分析
作者:
Juhwan Kim
;
Lantian Wang
;
Daniel Zhang
;
Zongwu Tang
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
MEEF;
model based lithograpgy verification;
pinch;
bridge;
hotspor;
Mask CD metrology;
2.
Image placement accuracy of single-membrane stencil masks for e-beam lithography
机译:
用于电子束光刻的单膜模板面罩的图像放置精度
作者:
Minoru Kitada
;
Satoshi Yusa
;
Naoko Kuwahara
;
Hiroshi Fujita
;
Tadahiko Takikawa
;
Hisatake Sano
;
Morihisa Hoga
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
stencil mask;
image placement(IP);
and finite element(FE) modeling;
3.
Yield-Driven Multi-Project Reticle Design and Wafer Dicing
机译:
产量驱动的多项目掩模版设计和晶片切割
作者:
Andrew B. Kahng
;
Ion Mandoiu
;
Xu Xu
;
Alex Zelikovsky
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
4.
Reverse engineering source polarization error
机译:
逆向工程源极化误差
作者:
George E. Bailey
;
Kostas Adam
;
Travis Brist
;
Olivier Toublan
;
Andrew Estroff
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
source polarization;
OPC;
immersion;
hyper-NA;
high-NA;
illumination optimization;
5.
CD measurement of points indicated in photomask writing data
机译:
光掩模写入数据中指示的点CD测量
作者:
Hitomi Satoh
;
Masashi Ataka
;
Norimichi Anazawa
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
CD;
SEM;
measurement;
photomask;
OPC;
EB;
6.
Simulation-Based Scattering Bar generation for 65nm and beyond
机译:
基于仿真的散射杆生成65nm及更远
作者:
Chi-Yuan Hung
;
Qingwei Liu
;
Liguo Zhang
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
optical proximity correction (OPC);
sub design rule assistant feature (SRAF);
edge placement error (EPE);
calibre;
simulation-based;
7.
Scatterometry based CD and profile metrology of MoSi/quartz structures
机译:
基于散射仪的MOSI /石英结构的CD和谱物学计量
作者:
Sanjay Yedur
;
Vi Vuong
;
Deepak Shivaprasad
;
T. P. Sarathy
;
Milad Tabet
;
Rahul Korlahalli
;
Jiangtao Hu
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
Optical CD;
Scatterometry;
Spectroscopic Ellipsometry;
ODP;
8.
Generating Mask Inspection Rules for Advanced Lithography
机译:
为高级光刻生成面罩检查规则
作者:
Karen Badger
;
Bill Broadbent
;
Aditya Dayal
;
Emily Gallagher
;
ChingYun Hsiang
;
Vincent Redding
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
MRC;
inspectability;
sensitivity;
DUV inspection;
database;
STARlight;
OPC;
9.
Influence of organic contamination on photomask performance
机译:
有机污染对光掩模性能的影响
作者:
Christian Chovino
;
Stefan Helbig
;
Wolfgang Dieckmann
;
Karsten Bubke
;
Peter Dress
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
dry cleaning;
printing property;
NGL;
photomask;
organic contamination;
10.
Simulation-based scattering bar generation for 65nm and beyond
机译:
基于仿真的散射杆生成65nm及更远
作者:
Chi-Yuan Hung
;
Qingwei
;
Liguo Zhang
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
Edge Placement Error(EPE);
Calibre;
Simulation-Based;
11.
The difficult business model for mask equipment makers and mask infrastructure development support from consortia and governments
机译:
掩盖设备制造商和掩码基础设施开发支持的困难商业模式,联盟和政府
作者:
Scott Hector
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
masks;
mask equipment;
business model;
discounted cash flow;
cost of ownership;
cost models;
12.
OPC for edge post structures using chrome-less phase shifting mask in 3-D memory
机译:
OPC用于边缘柱结构,在3-D内存中使用铬相移掩模
作者:
Yung-Tin Chen
;
M.T. Lee
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
OPC;
Post printing;
Adjustable transmission;
3-D memory;
chrome-less phase shifting mask;
13.
Improved modeling of fogging and loading effect correction
机译:
改进雾化和装载效果校正的建模
作者:
Sanghee Lee
;
Byunggook Kim
;
Hakseung Han
;
Dongseok Nam
;
Seongyong Moon
;
Seongwoon Choi
;
Woosung Han
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
fogging effect;
loading effect;
CD uniformity;
modeling;
dose modulation technique;
14.
Laser and e-beam mask-to-silicon with inverse lithography technology (ILT)
机译:
具有逆光刻技术的激光和电子束掩模到硅(ILL)
作者:
Linyong Pang
;
Nader Shamma
;
Paul Rissman
;
Dan Abrams
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
Mask writing;
Inverse Lithograpgy Technology(ILT);
OPC;
RET;
Lithograpgy;
coG;
AttPSM;
15.
CD measurement of points indicated in photomask writing data
机译:
光掩模写入数据中指示的点CD测量
作者:
Hitomi Satoh
;
Masashi Ataka
;
Norimichi Anazawa
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
CD;
DEM;
measurement;
photomask;
OPC;
EB;
16.
Patterning Optimization for 55nm Design Rule DRAM/Flash Memory using Production-Ready Customized Illuminations
机译:
使用生产现备定制照明的55nm设计规则DRAM /闪存的图案化优化
作者:
Ting Chen
;
Doug Van Den Broeke
;
Stephen Hsu
;
Michael Hsu
;
Sangbong Park
;
Gabriel Berger
;
Tamer Coskun
;
Joep de Vocht
;
Fung Chen
;
Robert Socha
;
JungChul Park
;
Keith Gronlund
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
illumination optimization;
low-k1 lithography;
polarized illumination;
immersion lithography;
source shape;
manufacturability requirements;
DRAM;
Flash;
production-ready;
17.
Optical DC overlay measurement in the 2nd level process of 65 nm alternating phase shift mask
机译:
光直流覆盖测量在65nm交替相移掩模的第二级过程中
作者:
Jian Ma
;
Kyung Lee
;
Yulia Korobko
;
Mary Silva
;
Joas Chavez
;
Brian Irvine
;
Sven Henrichs
;
Kishore Chakravorty
;
Robert Olshausen
;
Mahesh Chandramouli
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
Mask;
APSM;
Optical;
Overlay;
2 level;
Tool-induced shift;
Mask-induced shift;
18.
The impact of attenuated phase shift mask topography on hyper-NA lithography
机译:
减毒相移掩模地形对超高性光刻的影响
作者:
Chris A. Mack
;
Mark D. Smith
;
Trey Graves
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
lithography modeling;
mask topography;
PROLITH;
19.
Real-world impact of inverse lithography technology
机译:
逆光刻技术的现实影响
作者:
Jonathan Ho
;
Yan Wang
;
Xin Wu
;
Wolfgang Leitermann
;
Benjamin Lin
;
Ming Feng Shieh
;
Jie-wei Sun
;
Orson Lin
;
Jason Lin
;
Yong Liu
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
Inverse Lithography Technolog(ILT);
OpC;
RET;
Lithography;
20.
Mask Data Volume - Explosion or Damp Squib?
机译:
掩模数据量 - 爆炸或潮湿的爆炸?
作者:
Chris Spence
;
Scott Goad
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
optical proximity correction (OPC);
mask data prep (MDP);
variable shaped beam (VSB);
21.
Impact of DUV exposure on reticle repairs
机译:
DUV暴露对掩压爵士修理的影响
作者:
Vikram L. Tolani
;
Scott Chegwidden
;
Edgar C. Buenconsejo
;
Daniel Tanzil
;
Daniel J. Bald
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
exposure;
DUV;
FIB;
focused ion beam;
repair;
defect;
overspray;
halo;
carbon;
deposition;
reticle;
photomask;
22.
Improvement in defect classification efficiency by grouping disposition for reticle inspection
机译:
掩盖检查分组缺陷分类效率的提高
作者:
Rick Lai
;
Luke T.H. Hsu
;
Peter Chang
;
C.H. Ho
;
Frankie Tsai
;
Garrett Long
;
Paul Yu
;
John Miller
;
Vincent Hsu
;
Ellison Chen
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
reticle inspection;
defect review;
reviewsmart;
terascan;
defect grouping;
binning efficiency;
23.
Evaluation of alternative capping layers for EUVL mask ML blank
机译:
EUVL掩模ML空白的替代封盖层的评价
作者:
Pei-yang Yan
;
Eberhard Spiller
;
Eric Gullikson
;
Shannon Hill
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
EUVL mask;
EUVL mask blanks;
EUVL;
ML capping layer, EUV multi-layers;
24.
Electron beam pattern generator sensitivity to target potentials
机译:
电子束图案发电机对目标电位的敏感性
作者:
Junru Ruan
;
John Hartley
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
electron beam;
EUV lithograpgy;
mask;
electrostatic chuck;
potintial;
25.
Pattern type specific modeling and correction methodology at high NA and off-axis illumination
机译:
在高NA和轴外照明下图案类型特异性建模和校正方法
作者:
Sungsoo Suh
;
Young-seog Kang
;
In-sung Kim
;
Sang-gyun Woo
;
Hanku Cho
;
Joo-tae Moon
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
Lithography;
Optical Proximity correction;
Model OPC;
OPc verification;
26.
Optimization of Alt-PSM structure for 45nm node ArF immersion lithography
机译:
45NM节点ARF浸入光刻的ALT-PSM结构优化
作者:
Takashi Adachi
;
Kei Mesuda
;
Nobuhito Toyama
;
Yasutaka Morikawa
;
Hiroshi Mohri
;
Naoya Hayashi
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
45nm node;
Alternating Aperture PSM(Alt-PSM);
Immersion lithography;
3D simulation;
27.
A study of Cr to Mosi in-situ. dry etching process to reduce plasma induced defect
机译:
对摩西的研究进展。干蚀刻工艺以减少血浆诱导缺陷
作者:
Il-Yong Jang
;
Young-Ju Park
;
Hyuk-Joo Kwon
;
Seong-Yong Moon
;
Seong-Woon Choi
;
Woo-Sung Han
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
photomask;
Cr;
MoSiON;
in-situ. dry etch;
plasma;
chlorine;
28.
A new methodology for quantifying OPC recipe accuracy
机译:
一种用于量化OPC配方精度的新方法
作者:
David Ziger
;
Dave Gerold
;
Charles King
;
Frank Amoroso
;
Joshua Turtle
;
Robert Lugg
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
lithography verification;
optical proximity corrections;
optical proximity correction recipes;
29.
Mask rule check for inspection of leading-edge photomask
机译:
掩模规则检查前导边光罩检查
作者:
Wakahiko Sakata
;
Kiyoshi Yamasaki
;
Shogo Narukawa
;
Naoya Hayashi
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
Mask Rule Check;
MRC;
Inspection;
DNIR(Do Not Inspection Region);
30.
Economic consequences of high throughput maskless lithography
机译:
高吞吐量掩模光刻的经济后果
作者:
John G. Hartley
;
Lakshmi Govindaraju
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
maskless;
lithogaphy;
economics;
modeling;
31.
The difficult business model for mask equipment makers and mask infrastructure development support from consortia and governments
机译:
掩盖设备制造商和掩码基础设施开发支持的困难商业模式,联盟和政府
作者:
Scott Hector
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
Masks;
mask equipment;
business model;
discounted cash flow;
cost models;
32.
Dense OPC for 65nm and below
机译:
致密的opc为65nm及以下
作者:
Nicolas B Cobb
;
Yuri Granik
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
dense OPC;
dense simulation;
OPC verification;
33.
Enabling incremental RET to exploit hierarchical structure across multiple designs for sub-100 nm lithography
机译:
启用递增以跨多个设计的分层结构用于子 - 100nm光刻
作者:
Mark Laurance
;
Melissa Anderson
;
Mark Pilloff
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
OPC;
optical proximity correction;
RET;
resolution enhancement;
OPC reconfiguration;
re-use;
34.
CW DUV light sources for inspection tools
机译:
CW Duv光源检查工具
作者:
Jun Sakuma
;
Yasuyuki Okada
;
Tetsumi Sumiyoshi
;
Hitoshi Sekita
;
Minoru Obara
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
35.
Advanced Reticle Inspection Challenges and Solutions for 65nm-node
机译:
高级掩盖检查挑战和65nm节点的解决方案
作者:
Won D. Kim
;
Mark D. Eickhoff
;
David Kim
;
Sandy McCurley
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
65nm-node;
mask inspection;
reticle inspection;
resolution enhancement technique (RET);
sub resolution assist feature (SRAF);
design for manufacturing (DFM);
36.
Vectorial effects in subwavelength mask imaging
机译:
亚波长掩模成像中的矢量效应
作者:
Wen-Hao Cheng
;
Jeff Farnsworth
;
Theodore M. Bloomstein
;
Andrew Grenville
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
ArF immersion lithography;
mask;
topography;
polarization;
resonance;
diffraction;
off axis illumination;
pellicle transmission;
37.
Inspection and planarization of programmed pit masks for EUV lithography
机译:
EUV光刻编程坑面罩的检查和平面化
作者:
S.-C. Seo
;
S.-I. Han
;
Y. Ikuta
;
P. Kearney
;
A. Ma
;
D. Krick
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
EUV lithograpgy;
multilayer mask;
programmed pits;
confocal microscope;
Focused ion beam;
Atomic Force Microscope;
38.
Off-target Model Based OPC
机译:
基于偏离目标模型的OPC
作者:
Mark Lu
;
Curtis Liang
;
Dion King
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
OPC;
model-based OPC;
process robustness;
off-target;
pattern;
39.
A Novel GDSII Compression Technique
机译:
一种新型GDSII压缩技术
作者:
Mark Pereira
;
Barsha Baruah
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
40.
Performance of the ALTA 4700 with variable print strategy and optimized resist process
机译:
ALTA 4700具有可变印刷策略和优化抗蚀过程的性能
作者:
Paul C. Allen
;
H. Christopher Hamaker
;
Cris Morgante
;
Andrew Berwick
;
Michael White
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
CD uniformity;
registration;
CW laser;
DUV;
mask pattern generation system;
multi-beam;
multi-pass;
41.
Evaluation of Transparent Etch Stop Layer phase shift mask patterning and comparison with the single trench undercut approach
机译:
透明蚀刻停止层相移掩模图案的评价与单沟槽底切的比较
作者:
Y. Rody
;
P. Martin
;
C. Couderc
;
P. Sixt
;
C. Gardin
;
K. Lucas
;
K. Patterson
;
C. Miramond-Collet
;
J. Belledent
;
R. Boone
;
A. Borjon
;
Y. Trouiller
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
AAPSM;
Mask technology;
OPC;
TESL;
42.
A Films Based Approach to Intensity Imbalance Correction for 65 nm Node c:PSM
机译:
基于薄膜的65nm节点C的强度不平衡校正方法:PSM
作者:
Rand Cottle
;
Pierre Sixt
;
Matt Lassiter
;
Marc Cangemi
;
Patrick Martin
;
Chris Progler
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
AAPSM;
c: PSM;
TESL;
RET;
OPC;
photomask;
reticle;
quartz etch;
43.
Advanced photomask repair technology for 65nm lithography (4)
机译:
高级Photomask修复技术65nm光刻(4)
作者:
Yasutoshi Itou
;
Yoshiyuki Tanaka
;
Osamu Suga
;
Yasuhiko Sugiyama
;
Ryoji Hagiwara
;
Haruo Takahashi
;
Osamu Takaoka
;
Tomokazu Kozakai
;
Osamu Matsuda
;
Katsumi Suzuk
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
hp65 generation;
193nm lithograpgy;
FIB repair;
44.
Advanced mask cleaning techniques for sub-100-nm technology nodes
机译:
用于子100-NM技术节点的高级掩模清洁技术
作者:
James S. Papanu
;
Roman Gouk
;
Cole Franklin
;
Han-Wen Chen
;
Steven Verhaverbeke
;
Alexander Ko
;
Kent Child
;
Pieter Boelen
;
Suresh Shrauti
;
Elias Martinez
;
Brian J. Brown
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
photomasks;
wet cleaning;
ozonated DI;
dry strip;
45.
Full-chip Level MEEF Analysis using Model Based Lithography Verification
机译:
采用基于模型的光刻验证的全芯片级MEEF分析
作者:
Juhwan Kim
;
Lantian Wang
;
Daniel Zhang
;
Zongwu Tang
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
MEEF;
model based lithography verification;
pinch;
bridge;
hotspot;
Mask CD metrology;
46.
Impact of Photolithography and Mask Variability on Interconnect Parasitics
机译:
光刻法和掩模变异性对互连寄生菌的影响
作者:
Yuxin Tian
;
Weiping Shi
;
M. Ray Mercer
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
parasitic extraction;
DFM;
lithography simulation;
mask variability;
47.
Optimized inspection of advanced reticles on the TeraScan reticle inspection tool
机译:
Terascan墨罩检查工具的高级标题的优化检查
作者:
Aditya Dayal
;
J.-P. Sier
;
Weston Sousa
;
Steven Labovitz
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
Inspection;
Reticle;
Photomask;
Defect;
Lithograpgy;
OPC;
DUV;
48.
The impact of attenuated phase shift mask topography on hyper-NA lithography
机译:
减毒相移掩模地形对超高性光刻的影响
作者:
Chris A. Mack
;
Mark D. Smith
;
Trey Graves
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
Lithography Modeling;
mask topography;
PROLITH;
49.
Predicting Wafer-Level IP Error due to Particle-Induced EUVL Reticle Distortion During Exposure Chucking
机译:
预测晶片级IP误差由于粒子引起的EUVL掩模掩模掩模掩模掩模性失真而曝光夹持
作者:
Vasu Ramaswamy
;
Andrew Mikkelson
;
Roxann Engelstad
;
Edward Lovell
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
particle contamination;
reticle distortion;
IP error;
EUV lithography;
FE analysis;
50.
Through-process window resist modelling strategies for the 65 nm node
机译:
通过过程窗口抵抗65 nm节点的建模策略
作者:
Amandine Borjon
;
Jere Belledent
;
Yorick Trouiller
;
Kyle Patterson
;
Kevin Lucas
;
Christophe Couderc
;
Frank Sundermann
;
Jean-Christophe Urbani
;
Stanislas Baron
;
Yves Rody
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
OPC;
resist modelling;
process window;
ORC;
failure prlure prediction;
51.
Applying assist features to improve two dimensional feature process robustness
机译:
应用辅助功能改善二维功能的鲁棒性
作者:
Lawrence S. Melvin III
;
Benjamin D. Painter
;
Levi D. Barnes
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
SEM;
edge extraction;
lithograpgy simulation;
optical proximity correction(OPC);
52.
Mask Repair for the 65 nm Technology Node
机译:
65 NM技术节点的掩模修复
作者:
Tod Robinson
;
Andrew Dinsdale
;
Ron Bozak
;
Roy White
;
David A. Lee
;
Ken Roessler
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
mask repair;
photomask;
nanomachining;
53.
Analytical approximations of the source intensity distributions
机译:
源强度分布的分析近似
作者:
Yuri Granik
;
Kostas Adam
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
optical lithography;
optical proximity correction;
OPC;
resolution enhancement techniques;
RET;
54.
Post-OPC verification using a full-chip Pattern-Based simulation verification method
机译:
使用全芯片模式的仿真验证方法后OPC验证
作者:
Chi-Yuan Hung
;
Ching-Heng Wang
;
Cliff Ma
;
Gary Zhang
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
optical proximity correction (OPC);
RET;
full-chip post OPC verification;
DFM;
pattern-based;
55.
A mask manufacturer's perspective on maskless lithography
机译:
面具制造商对掩模光刻的透视
作者:
Peter Buck
;
Charles Biechler
;
Franklin Kalk
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
Mask;
Photomask;
maskless lithograpgy;
direct write lithography;
56.
Design and Fabrication of Nano-imprint Templates Using Unique Pattern Transforms and Primitives
机译:
使用独特模式转换和基元设计和制造纳米印记模板
作者:
Susan MacDonald
;
David Mellenthin
;
Kevin Rentzsch
;
Kenneth Kramer
;
James Ellenson
;
Tim Hostetler
;
Ron Enck
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
nano-imprint;
SFIL;
templates;
e-beam lithography;
imaging;
57.
Yield-driven multi-project reticle design and wafer dicing
机译:
产量驱动的多项目掩模版设计和晶片切割
作者:
Andrew B. Kahng
;
Ion Mandoiu
;
Xu Xu
;
Alex Zelikovsky
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
58.
Optimal distributed computing resources for mask synthesis and tape-out in production environment: an economic analysis
机译:
用于掩模合成和生产环境中带传递的最佳分布式计算资源:经济分析
作者:
Chris Cork
;
Manoj Chacko
;
Shimon Levi
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
OPC;
distributed processing;
tape-out;
economics;
Amdahl's Law;
59.
Investigation of Sulfate Free Clean Processes for Next Generation Lithography
机译:
对下一代光刻的硫酸盐免费清洁过程的研究
作者:
Christian Chovino
;
Stefan Helbig
;
Petr Haschke
;
Werner Saule
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
wet cleaning;
NGL;
photomask;
contamination;
ozonated water;
hydrogen water;
sulfate;
60.
Scatterometry based CD and profile metrology of MoSi/Quartz Structures
机译:
基于散射仪的MOSI /石英结构的CD和谱物学计量
作者:
Sanjay Yedur
;
Vi Vuong
;
Deepak Shivaprasad
;
T.P. Sarathy
;
Milad Tabet
;
Rahul Korlahalli
;
Jiangtao Hu
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
optical CD;
scatterometry;
spectroscopic ellipsometry;
ODP;
61.
Advanced Photomask Repair Technology for 65nm Lithography (4)
机译:
高级Photomask修复技术65nm光刻(4)
作者:
Yasutoshi Itou
;
Yoshiyuki Tanaka
;
Osamu Suga
;
Yasuhiko Sugiyama
;
Ryoji Hagiwara
;
Haruo Takahashi
;
Osamu Takaoka
;
Tomokazu Kozakai
;
Osamu Matsuda
;
Katsumi Suzuki
;
Mamoru Okabe
;
Syuichi Kikuchi
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
hp65 generation;
193nm lithography;
FIB repair;
62.
Magnetron reactive sputtering of TaN and TaON films for EUV mask applications
机译:
用于EUV掩模应用的Tan和Taon薄膜的磁控反应溅射
作者:
Kyung m Lee
;
Malahat Tavassoli
;
Alan Stivers
;
Barry Lieberman
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
EUV;
sputter deposition;
tantalum nitride;
TaN;
tantalum oxinitride;
TaON;
63.
Source polarization and OPC effects on illumination optimization
机译:
源极化和OPC对照明优化的影响
作者:
Travis Brist
;
George E. Bailey
;
Alexander Drozdov
;
Andres Torres
;
Andrew Estroff
;
Eric Hendrickx
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
immersion;
polarization;
OPC;
illumination optimization;
process window;
depth of focus;
64.
Simulation-based photomask qualification using i-Virtual Stepper
机译:
基于仿真的光掩模资格使用i-Virtual步进
作者:
Darren Taylor
;
Ray Morgan
;
Susan Hu
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
Simulation-based defect disposition;
Photomask Qualification;
Inspection;
i-virtual Stepper;
i-VSS;
65.
Model-based insertion and optimization of assist features with application to contact layers
机译:
基于模型的插入和优化辅助功能,应用于接触层
作者:
Shumay D. Shang
;
Yuri Granik
;
Lisa Swallow
;
Li-guo Zhang
;
Travis Brist
;
Andres Torres
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
optical proximity correction (OPC);
sub-resolution assist feature (SRAF);
process window;
contact layers;
mask optimization;
mask inversion;
resolution enhancement techniques (RET);
mask simplification;
66.
On the Sensitivity Improvement and Cross-correlation Methodology for Confocal EUV Mask Blank Defect Inspection Tool Fleet
机译:
关于共聚焦EUV掩模空白缺陷检测工具舰队的敏感性改进与互相关方法
作者:
Kuen-Yu Tsai
;
Eric Gullikson
;
Patrick Kearney
;
Alan Stivers
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
mask blank inspection;
extreme ultraviolet lithography;
confocal imaging;
sensitivity improvement;
tool correlation;
67.
Mask Cleaning Strategies—Haze Elimination
机译:
面具清洁策略 - 雾霾消除
作者:
Steve Osborne
;
Matthias Nanninga
;
Hidekazu Takahashi
;
Eric Woster
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
68.
DFM for manufacturers and designers
机译:
制造商和设计师的DFM
作者:
Philippe Hurat
;
Michel Cote
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
69.
Evaluation and implementation of TeraScan reflected light die-to-database inspection mode for 65nm design node process
机译:
65NM设计节点过程的Terascan反射光模对数据库检查模式的评估与实现
作者:
Luke T. H. Hsu
;
C. H. Ho
;
C. C. Lin
;
Vincent Hsu
;
Ellison Chen
;
Paul Yu
;
Kong Son
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
reflected light die-to-database (dbR) inspection;
transmitted light die-to-database(dbT) inspection;
contamination inspection;
70.
The detectability of Qz phase defects and its application for 65 nm node CPL mask manufacturing
机译:
QZ相位缺陷的可检测性及其在65 nm节点CPL掩模制造中的应用
作者:
Won Il Cho
;
Jin Hyung Park
;
Dong Hoon Chung
;
Sung Woon Choi
;
Woo Sung Han
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
RET;
chrome-less phase lithography;
CPL;
Qz phase defect;
inspection;
defect printability;
71.
Comparison of different approaches for the correction of residual mask proximity effects
机译:
校正残余掩模邻近效应的不同方法的比较
作者:
E. Mittermeier
;
T. Franke
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
short-range mask effects;
poximity;
mask process simulation;
lithography simulation;
poximity correction;
72.
The impact of mask birefringence on hyper-NA (NA>1.0) polarized imaging
机译:
面膜双折射对超 - NA(NA> 1.0)极化成像的影响
作者:
Bernd Geh
;
Donis G. Flagello
;
Chris Progler
;
Patrick M. Martin
;
Leonardus H. Leunissen
;
Steve Hansen
;
Wim de Boeij
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
Hyper NA;
High NA;
polarization;
imaging;
immersion;
193nm;
low k1;
mask birefringence;
Stokes parameters;
73.
The effect of calibration feature weighting on OPC optical and resist models - investigating the influence on model coefficients and on the overall model fitting
机译:
校准功能加权对OPC光学和抗蚀模型的影响 - 研究模型系数的影响和整体模型配件
作者:
Amr Abdo
;
Rami Fathy
;
Kareem Madkour
;
James Oberschmidt
;
Daniel Fischer
;
Mohamed Talbi
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
model-based OPC;
OPC model accuracy;
OPC model fitting;
variable threshold resist model;
74.
How large MEEF is acceptable for the low-k1 lithography?
机译:
低k1光刻是多大的meef?
作者:
Dongseok Namz
;
Dong-Gun Lee
;
Byunggook Kim
;
Seong-Yong Moon
;
Seong-Woon Choi
;
Woo-Sung Han
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
MEEF;
low k;
MTT;
uniformity;
75.
Source polarization and OPC effects on illumination optimization
机译:
源极化和OPC对照明优化的影响
作者:
Travis Brist
;
George E. Bailey
;
Alexander Drozdov
;
Andres Torres
;
Andrew Estroff
;
Eric Hendrickx
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
immersion;
polarization;
OPC;
illumination optimization;
process window;
depth of focus;
76.
Mask data volume: explosion or damp squib?
机译:
掩模数据量:爆炸或潮湿爆裂?
作者:
Chris Spence
;
Scott Goad
;
Peter Buck
;
Richard Gladhill
;
Russell Cinque
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
Optical Proximity correction (OPC);
Msak Data Kata Prep(MDP);
Variable Shaped Beam(VSB);
77.
Inverse Lithography Technology: Verification of SRAM Cell Pattern
机译:
逆光刻技术:SRAM细胞模式的验证
作者:
Artur Balasinski
;
Andrew Moore
;
Nader Shamma
;
Timothy Lin
;
Hee-hong Yang
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
inverse lithography technology;
SRAM cell;
electrical verification;
OPC;
78.
A novel strategy of lithography-error-budget optimization for the 65-nm node: mask specifications for hyper-NA imaging
机译:
65-NM节点的光刻 - 错误预算优化的新策略:超级成像的掩模规范
作者:
Kazuya Iwase
;
Kiichi Ishikawa
;
Koichi Takeuchi
;
Ken Ozawa
;
Fumikatsu Uesawa
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
immersion lithography;
mask;
specification;
hyper-NA;
printability;
error budget;
79.
Three dimensional EUV simulations - A new mask near field and imaging simulation system
机译:
三维EUV仿真 - 近场和成像仿真系统附近的新面具
作者:
Peter Evanschitzky
;
Andreas Erdmann
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
3D EUV simulation;
waveguide;
Jones pupil;
80.
Enabling incremental RET to exploit hierarchical structure across multiple designs for sub-100 nm lithography
机译:
启用递增以跨多个设计的分层结构用于子 - 100nm光刻
作者:
Mark Laurance
;
Melissa Anderson
;
Mark Pilloff
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
OPC;
optical proximity correction;
RET;
resolution enhancement;
OPC reconfiguration;
re-use;
81.
Mask Lithography Assessment for 45nm Node Technology
机译:
45nm节点技术的面具光刻评估
作者:
R. Scott Mackay
;
Henry Kamberian
;
Barry Rockwell
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
photomask: e-beam lithography;
pattern generator;
82.
Investigation of sulfate free clean processes for next generation lithography
机译:
对下一代光刻的硫酸盐免费清洁过程的研究
作者:
Christian Chovino
;
Stefan Helbig
;
Petr Haschke
;
Werner Saule
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
wet cleaning;
NGL;
photomask;
contanination;
ozonated water;
hydrogen water;
sulfate;
83.
Tolerable CD variation analyzer using perturbed nominal models demonstrated on altPSM
机译:
在ALTPSM上使用扰动标称模型的可容忍CD变化分析仪
作者:
Ioana Graur
;
James A. Culp
;
James Bruce
;
Mohamed Al-Imam
;
Mohamed Bahnas
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
84.
Economic consequences of high throughput maskless lithography
机译:
高吞吐量掩模光刻的经济后果
作者:
John G. Hartley
;
Lakshmi Govindaraju
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
maskless;
lithography;
economics;
modeling;
85.
Reticle haze measurement by spectroscopic elipsometry
机译:
通过光谱椭圆形测量掩模版雾度测量
作者:
Young-Hoon Kim
;
Seong-Jin Kim
;
Jin-Back Park
;
Mi-Lim Jung
;
Sung-Hyuck Kim
;
Seung-Wook Park
;
Jai-Sun Kyoung
;
Il-Sin An
;
Hye-Keun Oh
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
haze;
ellipsometry;
contamination;
86.
Applying reconfigurable RET across process window to create more robust manufacturing designs
机译:
应用重新配置RET跨处理窗口以创建更强大的制造设计
作者:
Mark Laurance
;
Abhishek Vikram
;
Melody Ma
;
William Volk
;
Melissa Anderson
;
Scott Andrews
;
Bo Su
;
Hong Du
;
Gaurav Verma
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
OPC;
halo;
optical proximity correction;
RET;
OPC reconfiguration;
process window;
Halo-OPC;
DesignScan;
87.
Evaluation and implementation of TeraScan reflected light die-to-database inspection mode for 65nm design node process
机译:
65NM设计节点过程的Terascan反射光模对数据库检查模式的评估与实现
作者:
Luke T. H. Hsu
;
C.H. Ho
;
C. C. Lin
;
Vincent Hsu
;
Ellison Chen
;
Paul Yu
;
Kong Son
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
reflected light die-to-database (dbR) inspection;
transmitted light die-to-database (dbT) inspection;
contamination inspection;
88.
Optimized distributed computing environment for mask data preparation
机译:
用于掩模数据准备的优化分布式计算环境
作者:
Byoung-Sup Ahn
;
Ju-Mi Bang
;
Min-Kyu Ji
;
Sun Kang
;
Sung-Hoon Jang
;
Yo-Han Choi
;
Won-Tai Ki
;
Seong-Woon Choi
;
Woo-Sung Han
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
distributed computing;
mask data preparation;
optical proximity correction;
89.
Calibration procedures and application of the PTB photomask CD standard
机译:
PTB Photomask CD标准的校准程序和应用
作者:
W. Haessler-Grohne
;
C.G. Frase
;
S. Czerkas
;
K. Dirscherl
;
B. Bodermann
;
W. Mirande
;
G. Ehret
;
H. Bosse
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
SEM;
UV transmission microscopy;
CD metrology;
photomask standard;
signal modelling;
90.
The detectability of Qz phase defects and its application for 65nm node CPL mask manufacturing
机译:
QZ相缺陷的可检测性及其对65nm节点CPL掩模制造的应用
作者:
Won Il Cho
;
Jin Hyung Park
;
Dong Hoon Chung
;
Sung Woon Choi
;
Woo Sung Han
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
RET;
chrome-less Phase Lithograpgy;
CPL;
Qzphase defect;
inspection;
defect printability;
91.
Use of excimer laser test system for studying haze growth
机译:
用于研究雾度生长的准分子激光试验系统
作者:
Joseph Gordon
;
Brooke Murray
;
Larry E. Frisa
;
Erik Nelson
;
Colleen Weins
;
Michael Green
;
Matt Lamantia
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
haze;
crystal growth;
contamination growth;
pellicles;
laser;
life testing;
92.
CD Measurement of Angled Lines on High-End Masks and its Calibration Method
机译:
高端面罩上成角度线的CD测量及其校准方法
作者:
Masashi Ataka
;
Yasunobu Kitayama
;
Katsuyuki Takahashi
;
Naoyuki Nakamura
;
Izumi Santo
;
Hitomi Satoh
;
Norimichi Anazawa
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
CD-SEM;
mask;
CAD;
design data;
OPC;
angled pattern;
calibration;
standard;
lattice;
93.
Noble development system to achieve defect-free process for 65nm node photomasks
机译:
高贵的开发系统实现65nm节点光掩模的无缺陷过程
作者:
Hironori Sasaki
;
Shuichi Sanki
;
Ryugo Hikichi
;
Kiyoshi Ogawa
;
Akihiko Naito
;
Yukihiro Sato
;
Yasuyuki Kushida
;
Naoyuki Ishiwata
;
Hiroshi Maruyama
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
defects;
development;
CARs;
Bar-nozzle;
94.
Expanding Grayscale Capability of Direct-Write Grayscale Photomask By Using Modified Bi/In Compositions
机译:
通过使用改进的BI / Comitients扩展直接写灰度光掩模的灰度能力
作者:
David K. Poon
;
Glenn H. Chapman
;
Chinheng Choo
;
Jun Wang
;
Yuqiang Tu
;
Michelle L. La Haye
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
direct-write photomask;
grayscale photomask;
expanding grayscale;
bimetallic thermal resist;
MEMS;
95.
The importance of being homogeneous — on the influence of illumination inhomogeneity on AIMS images
机译:
同质的重要性 - 关于照明不均匀性对目标图像的影响
作者:
Arndt C. Duerr
;
Karsten Bubke
;
Martin Sczyrba
;
Samuel Angonin
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
AIMS;
defect disposition;
lithography simulation;
aerial imaging;
193nm lithography;
printability;
optical imaging;
mask;
reticle;
96.
Analysis of various blur effects on mask CD distortion
机译:
对掩模CD失真的各种模糊效应分析
作者:
Hak-Seung Han
;
Sang-Hee Lee
;
Byung-Gook Kim
;
Seong-Yong Moon
;
Sung Woon Choi
;
Woo-Sung Han
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
Blur;
100keV;
50keV;
forward scattering;
backscattering;
backscattering;
dose margin;
process margin;
97.
Double Exposure Technique for 45nm node and Beyond
机译:
45nm节点和超越的双曝光技术
作者:
Stephen Hsu
;
Jungchul Park
;
Douglas Van Den Broeke
;
J. Fung Chen
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
double exposure technique;
DET;
double dipole lithography;
DDL;
double pattering;
CPL;
scattering bars;
SB;
full-sized SB;
FSB;
model based layout conversion;
double exposure lithography;
DEL;
coloring;
coloring line method (CLN);
coloring space method (;
98.
65 nm node photomask etching with zero CD process bias
机译:
65 NM节点光掩模蚀刻零CD处理偏置
作者:
Banqiu Wu
;
Jeff Chen
;
Ed Markovitz
;
Guangming Xiao
;
Simon Tam
;
Ajay Kumar
;
Ibrahim Ibrahim
;
Wai-Fan Yau
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
Photomask etch;
etch bias;
65 nm etch;
ztch;
zero bias;
99.
Calibration of compact OPC models using SEM contours
机译:
使用SEM轮廓校准紧凑型OPC型号
作者:
Yuri Granik
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
optical lithograpgy;
optical proximity correction;
OPC;
resolution enhancement techniques;
RET;
metrology;
critical dimension;
100.
Study of Effects of Sidewall Angle on Process Window Using 193nm CPL Masks in a 300mm Wafer Manufacturing Environment
机译:
300mm晶片制造环境中使用193nm CPL掩模侧壁角度对过程窗口的影响研究
作者:
Yung Feng Cheng
;
Yueh Lin Chou
;
C L Lin
;
Peter Huang
会议名称:
《Annual BACUS Symposium on Photomask Technology》
|
2005年
关键词:
CPL;
sidewall angle;
AFM;
3D mask;
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