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陈宝钦;
中国电子学会;
光掩模; 制版; 光刻; 发展趋势;
机译:使用双面(结构化)光掩模进行掩模对准器光刻的硅通孔制造的优化光刻工艺
机译:使用现有光掩模制造能力制造用于EUV光刻的自对准交替相移光掩模的简单方法
机译:使用现有的照片掩模制造能力制造用于EUV照片光刻的自对准交替相移照片掩模的简单方法
机译:21世纪初中国光学制造技术的发展趋势
机译:使用掩埋的光刻胶掩模方法制造多层,独立式,SU-8结构
机译:使用灰度光刻技术实现微混合器的三维(3D)微结构制造的单一乳化掩模的实现
机译:采用双面(结构化)光掩模制作硅通孔制造的优化光刻工艺,用于掩模对准器光刻
机译:光伏制造研发项目 - 美国光伏产业发展趋势
机译:用于EUV光刻的掩模坯料的衬底的制造方法,具有用于EUV光刻的多层反射膜的衬底的制造方法,用于EUV光刻的掩模坯的制造方法以及用于EUV光刻的转移掩模的制造方法
机译:由一个或多个处理器执行的一个或多个指令中的一个或多个指令中的一个,所述处理器执行用于形成光刻掩模版图的方法,用于形成光刻掩模版图的装置以及用于形成光刻掩模版图的方法。包含一个或多个序列的计算机可读介质。
机译:用于EUV光刻的具有多层反射膜的基板的制造方法,用于EUV光刻的反射型掩模板的制造方法,用于EUV光刻的反射型掩模的制造方法,以及半导体的制造方法
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