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光刻机技术现状及发展趋势

         

摘要

主要介绍了大规模集成电路制造中光刻工艺的技术现状和发展趋势.首先,在调研光刻机的研发和生产情况的基础上讨论了国内外光刻技术的现状;其次,重点分析了目前用于提高光刻机性能的各种关键技术;最后,简要介绍了下一代光刻技术的研究进展和发展方向.

著录项

  • 来源
    《光学仪器》 |2010年第4期|80-85|共6页
  • 作者

    彭祎帆; 袁波; 曹向群;

  • 作者单位

    浙江大学,现代光学仪器国家重点实验室,国家光学仪器工程技术研究中心,浙江,杭州,310027;

    浙江大学,现代光学仪器国家重点实验室,国家光学仪器工程技术研究中心,浙江,杭州,310027;

    浙江大学,现代光学仪器国家重点实验室,国家光学仪器工程技术研究中心,浙江,杭州,310027;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 TH741.1;
  • 关键词

    光刻机; 技术现状; 发展趋势;

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