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张锦; 冯伯儒; 郭永康;
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,四川,成都,610209;
四川大学物理系,四川,成都,610064;
干涉光刻; 激光光刻; 振幅分割; 无掩模;
机译:最少的无掩模曝光设备:实现无掩模光刻
机译:反射电子束光刻:使用反射电子束光刻概念的无掩模电子束直接写入光刻方法
机译:用于纳米压印光刻的混合掩模模具的激光干涉和光刻组合图案。
机译:利用无掩模光学光刻技术实现基于掩模的成像
机译:无掩模光刻系统的数据压缩:体系结构,算法和实现。
机译:使用灰度光刻技术实现微混合器的三维(3D)微结构制造的单一乳化掩模的实现
机译:基于DMD的无掩模灰度光刻系统的3D光刻工艺优化方法
机译:无掩模光刻系统的数据压缩:架构,算法和实现
机译:实现无掩模光刻的数据编码,压缩和传输方法
机译:用于无掩模光刻实时图案光栅化并使用计算耦合镜实现最佳特征表示的方法和系统
机译:用于实时图案光栅化无掩模光刻,通过计算耦合的镜像来实现最佳特征表示的方法和系统
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