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振幅分割无掩模激光干涉光刻的实现方法

         

摘要

无掩模激光干涉光刻中的分束方法一般有波前分割和振幅分割.研究和比较了振幅分割无掩模激光干涉光刻方法和系统,包括振幅分割双光束干涉系统、三光束干涉系统、液浸式深紫外干涉系统及全自动干涉光刻系统.建立了双光束双曝光干涉光刻实验系统.模拟和实验结果表明,对点阵或孔阵图形,在同样的图形尺度下,无掩模干涉光刻比传统光刻简单得多.

著录项

  • 来源
    《光电工程》 |2004年第2期|11-15|共5页
  • 作者

    张锦; 冯伯儒; 郭永康;

  • 作者单位

    中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,四川,成都,610209;

    四川大学物理系,四川,成都,610064;

    中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,四川,成都,610209;

    四川大学物理系,四川,成都,610064;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 光刻、掩膜;
  • 关键词

    干涉光刻; 激光光刻; 振幅分割; 无掩模;

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