波前分割无掩模激光干涉光刻的实现方法

冯伯儒; 张锦; 郭永康

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波前分割无掩模激光干涉光刻的实现方法

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激光干涉光刻不受传统光学光刻系统光源和数值孔径的限制,其极限尺寸CD达到曝光波长的1/4,研究了波前分割双光束、三光束方法及四光束无掩模激光干涉光刻方法,提出了可用于五光束和多种多光束和多次曝光的梯形棱镜波前分割干涉光刻方法.用自行建立的梯形棱镜波前分割系统进行了多光束干涉曝光实验,得到孔尺寸约220nm的阵列图形.

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来源
《光电工程》 |2004年第2期|8-10|共3页
作者
冯伯儒; 张锦; 郭永康;
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作者单位

中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,四川,成都,610209;

中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,四川,成都,610209;

四川大学物理系,四川,成都,610064;

四川大学物理系,四川,成都,610064;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类光刻、掩膜;
关键词
干涉光刻; 激光光刻; 无掩模; 波前分割;

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