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确定光刻掩模的对线宽的波动的与结构无关的贡献的方法

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摘要

为了确定光刻掩模(5)对线宽的波动的与结构无关的贡献，以空间分辨的方式评估光刻掩模(5)的非结构化测量区域的记录的2D强度分布(15zi)。

1. 确定光刻掩模的对线宽的波动的与结构无关的贡献的方法 [P] . 中国专利： CN110174821B . 2021.07.27
2. 确定光刻掩模的对线宽的波动的与结构无关的贡献的方法 [P] . 中国专利： CN110174821A . 2019-08-27
3. Method for determining a structure-independent contribution of a lithography mask to a fluctuation of the linewidth [P] . US11061331B2 . 2021-07-13

机译：确定光刻掩模的结构无关贡献的方法到线宽的波动
4. Method for determining a structure-independent contribution of a lithography mask to a fluctuation of the line width [P] . 德国专利： DE102018202639B4 . 2019-11-21

机译：确定光刻掩模对线宽波动的与结构无关的贡献的方法
5. Method for determining a structure-independent contribution of a lithography mask to a fluctuation of the line width [P] . 德国专利： DE102018202639A1 . 2019-08-22

机译：确定光刻掩模对线宽波动的与结构无关的贡献的方法