使用异质前体相互作用的硅碳化物膜的保形沉积

摘要

可以使用远程等离子体化学气相沉积(CVD)技术沉积经掺杂或未经掺杂的碳化硅膜。将一种或多种含硅前体提供至反应室。以实质上低能态或基态提供自由基物质，例如氢的自由基物质，并且其与一种或多种含硅前体相互作用以沉积碳化硅膜。共反应物可以与一种或多种含硅前体一起流动，其中该共反应物可以是沉积添加剂或非沉积添加剂以提高碳化硅膜的台阶覆盖率。