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机译:使用烷基酰胺前体的氧化钽高度保形原子层沉积
Tantalum oxide; Atomic layer deposition; Precursors; Chemical-vapor-deposition; Thin-films; Pentoxide;
机译:使用无氟氨基醇盐前体的原子层沉积形成高度共形的p型氧化铜(Cu2O)薄膜
机译:使用高度热稳定的前驱物Ta(NtBu)(iPrNC(Me)NiPr)2(NMe2)通过原子层沉积法生长氧化钽(V)膜
机译:使用前体叔丁基酰亚胺基-三乙基乙基甲基酰胺基钽和水的氧化钽薄膜的原子层沉积:工艺特性和膜性能
机译:高度共形等离子体增强的原子层沉积硅通过3D互连高纵横比通过硅的二氧化硅衬里
机译:使用叔丁基亚氨基三(二乙基氨基)钽金属有机前驱体的Ta基扩散阻挡层的化学气相沉积和原子层沉积
机译:通过在3D金属支架上通过原子层沉积(ALD)制备的高性能共形层状硫化锡(SnSx)对高性能超级电容器电极的活性增强
机译:烷基酰胺前体和远程O2等离子体的Ta2O5等离子体辅助原子层沉积
机译:LDRD项目52523最终报告:高度保形摩擦涂层的原子层沉积