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机译:使用高压喷涂系统从液态环戊硅烷前体中沉积硅膜
H. Frey; R. Lauth; H. R. Khan; N. Eisenreich; A. Koleczko;
机译:使用汽化液态环戊硅烷制备的磷和硼掺杂的氢化非晶硅薄膜
机译:在热线化学气相沉积技术中,腔室压力对以硅烷和甲烷为前体的硅膜的结晶度和组成的作用
机译:使用液体前体TMS以沉积抗反射和钝化A-SiC(n):H薄膜,低压/低频PECVD
机译:通过低压化学气相沉积的碳化硅薄膜,用于微和纳米机电系统。
机译:低温在柔性基板上沉积高导电性铝金属膜使用液态Alane MOD前体
机译:使用高压喷涂系统从液环戊烷前体沉积硅膜
机译:连续低温条件下具有高热稳定性和高蒸气压的包含硅的薄膜沉积的硅前体化合物
机译:使用含硅前体和含碳前体的远程等离子体基碳化硅膜的沉积
机译:使用乙硅烷作为硅前体的氧化硅膜和氟化氧化硅膜的低温等离子体增强化学气相沉积
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