机译:使用四(二甲基氨基)钛(TDMAT)和H2O前体通过原子层沉积制备保形二维TiO2的数据集
Atomic layer deposition Atomic-layered TiO2 TDMAT precursor;
机译:使用四(二甲基氨基)钛(TDMAT)和H
机译:使用四乙基(二甲基氨基)钛(TDMAT)和四氯化钛(TiCl
机译:使用四(二甲基氨基)钛和H_2O前驱体通过原子层沉积来晶圆级制备共形原子层TiO_2
机译:四(乙基甲基氨基)锡前驱体用于薄膜晶体管的原子层沉积法制备氧化锡膜
机译:使用四-二甲基酰胺基钛和水前体在硅和砷化镓衬底上沉积二氧化钛的原子层。
机译:通过等离子体增强的原子层沉积使用四甲基(二甲基氨基)钛(TDMAT)和四氯化钛(TiCl4)前体制备的锡薄膜的数据集
机译:通过等离子体增强的原子层沉积使用四甲基(二甲基氨基)钛(TDMAT)和四氯化钛(TiCl4)前体制备的锡薄膜的数据集
机译:原子层沉积(aLD) - 沉积二氧化钛(TiO2)厚度对Zr40Cu35al15Ni10(ZCaN)/ TiO2 /铟(In)基电阻随机存取存储器(RRam)结构性能的影响。