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Dataset for TiN Thin Films Prepared by Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition Using Tetrakis(dimethylamino)titanium (TDMAT) and Titanium Tetrachloride (TiCl4) Precursor

机译：通过等离子体增强的原子层沉积使用四甲基（二甲基氨基）钛（TDMAT）和四氯化钛（TiCl4）前体制备的锡薄膜的数据集

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Woo-Jae Lee; Eun-Young Yun; Han-Bo-Ram Lee; Suck Won Hong; Se-Hun Kwon;
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年度 2020
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