机译:原子层沉积(aLD) - 沉积二氧化钛(TiO2)厚度对Zr40Cu35al15Ni10(ZCaN)/ TiO2 /铟(In)基电阻随机存取存储器(RRam)结构性能的影响。
Electrodes; Hysteresis; Titanium oxides; Aluminum; Amorphous materials; Dielectrics; Indium; Platinum; Surface roughness; Thickness; Titanium dioxide; Atomic layer depositions; Tunnel junction; Metal insulator metal structures; Memristors; Resistive random access memory;
机译:InAs(100)表面TiO2薄膜的原子层沉积(ALD)过程中的铟扩散和自然氧化物去除
机译:原子层沉积(ALD)制备的纳米多孔TiO2 / SiO2上甲苯的吸附和解吸:TiO2薄膜厚度和湿度的影响
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机译:铝层和氧化对基于TiO_2的双极电阻随机存取存储器(RRAM)的影响
机译:通过原子层沉积(ALD)在质子交换膜燃料电池(PEMFCs)中制造的Au纳米颗粒(NPS)/超薄TiO2消除CO毒物作用
机译:HtO2 / TiO2 / HfO2三层结构RRAM器件在原子层沉积制备的Pt和TiN涂层衬底上的双极电阻转换特性
机译:研究温度对基于ZnO,TiO2,WO3和HfO2的电阻式随机存取存储器(RRAM)器件的影响