退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
公开/公告号CN103243310A
专利类型发明专利
公开/公告日2013-08-14
原文格式PDF
申请/专利权人 诺发系统公司;
申请/专利号CN201310051287.6
发明设计人 阿德里安·拉瓦伊;马克·J·萨利;丹尼尔·莫泽;拉杰什·奥德德拉;拉维·卡尼奥莉亚;
申请日2013-02-16
分类号C23C16/44(20060101);
代理机构31263 上海胜康律师事务所;
代理人李献忠
地址 美国加利福尼亚州
入库时间 2024-02-19 19:24:31
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-04-12
授权
2015-03-25
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C16/44 申请日:20130216
实质审查的生效
2013-08-14
公开
机译: 等离子体激活沉积保形膜
机译: 保形氮化硅碳膜和保形氮化硅层的低温等离子体化学气相沉积
机译: 计算机系统,用于控制多步电离金属等离子体沉积工艺,以保形保形
机译:具有双层光致抗蚀剂图案的剥离工艺,用于保形涂层超亲水脉冲等离子体化学气相沉积-SiOx在SiCx上进行芯片实验室应用
机译:用于3D结构微型电池的高保形和高离子电导率薄膜电解质:通过MOCVD方法沉积的LiPON膜的表征
机译:用于设备应用的保形,透明,导电氧化膜的多层沉积
机译:以六甲基二硅氧烷为前体的等离子体辅助介电保形涂层沉积
机译:适用于保形涂层的自动电泵沉积
机译:使用四(二甲基氨基)钛(TDMAT)和H2O前体通过原子层沉积制备保形二维TiO2的数据集
机译:远程SiH / sub 4 /等离子体中的膜生长前体,用于高速率沉积氢化非晶硅
机译:LDRD项目52523最终报告:高度保形摩擦涂层的原子层沉积