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劳晓东; 刘欣杰; 韩会民; 周俊敏;
周口师范学院,物理与电子工程系,河南,周口,466001;
大连理工大学,材料科学与工程学院,辽宁,大连,116023;
磁激活; 等离子体化学气相沉积; 设备;
机译:使用镍催化剂的等离子体增强化学气相沉积和热丝等离子体增强化学气相沉积无转移石墨烯的生长
机译:等离子体增强的化学气相沉积和热丝等离子体增强的化学气相沉积转移石墨烯使用镍催化剂
机译:通过等离子体增强化学气相沉积,用单一前体1,1,1,3,5,7,7,5-二氧化硅氧烷沉积的低k SicoH薄膜沉积。通过等离子体增强化学气相沉积,含有单次前体1,1,1,3,5,7,7,7八甲基-3,5-双(三甲基硅氧基)四硅氧烷
机译:使用TMOS / O / Sub 2 / Su / Su / Sir和等离子体诊断增强氧化硅膜和氮氧化硅膜的化学气相沉积的等离子体增强了化学气相沉积
机译:晶格匹配的III-V / IV组半导体异质结构:金属有机化学气相沉积和远程等离子体增强化学气相沉积。
机译:通过磁控等离子体增强从气相化学沉积的方法和设备。
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