silicon compounds; insulating thin films; plasma CVD coatings; plasma diagnostics; Langmuir probes; plasma density; plasma temperature; visible spectra; Fourier transform spectra; infrared spectra; plasma enhanced chemical vapor deposition; SiO/sub 2/ fi;
机译:使用TMOS / O_2气体和等离子体诊断程序进行等离子体增强的氧化硅膜化学气相沉积
机译:使用TMOS / N_2O气体等离子增强掺氮氧化硅膜的化学气相沉积
机译:用TMOS / N2 / NH3进行等离子体增强化学气相沉积的掺氮碳氧化硅膜和等离子体的特性
机译:使用TMOS / O / sub 2 // N / sub 2 /气体和等离子体诊断技术对氧化硅膜和氮氧化硅膜进行等离子体增强化学气相沉积
机译:等离子体增强了硅薄膜的化学气相沉积:利用等离子体诊断技术表征不同频率和气体成分下的薄膜生长。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:等离子体增强化学气相沉积沉积氮化硅和氮氧化硅薄膜的材料结构和机械性能