机译:等离子体增强化学气相沉积沉积氮化硅和氮氧化硅薄膜的材料结构和机械性能
机译:各种衬底材料对等离子体增强化学气相沉积沉积的非晶硅氮氧化物薄膜微观结构和光学性能的影响
机译:在低基板温度下通过等离子体增强化学气相沉积和热线化学气相沉积沉积的薄膜的机械和压阻特性
机译:电子回旋共振等离子体沉积的氮化硅薄膜增强了微机械系统应用中的化学气相沉积
机译:新型等离子体增强化学气相沉积源技术沉积氧化硅,氮化硅和碳化硅薄膜
机译:将等离子体增强化学气相沉积的氮化硅薄膜建模为有限的几何形状
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:射频增强等离子体化学气相沉积(RF pECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性质和沉积速率的影响