机译:电子回旋共振等离子体沉积的氮化硅薄膜增强了微机械系统应用中的化学气相沉积
Center for Semiconductor Components (CCS), UNICAMP, CP 6061, Campinas, SP 13083-870, Brazil;
electron cyclotron resonance (ECR) plasma; silicon nitride; microelectromechanical system (MEMS); thin film deposition;
机译:电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积微细加工过程中氮化硅薄膜的应力和成分分析
机译:电子回旋共振(ECR)等离子体增强化学气相沉积法沉积氮化硅薄膜的湿法刻蚀研究
机译:通过使用SiF4 / H-2化学物质的基质分布电子回旋共振等离子体沉积微晶硅薄膜增强了化学气相沉积
机译:电子回旋谐振等离子体增强化学气相沉积技术沉积氮化硅膜中氮化硅膜应力的影响
机译:微波等离子体电子回旋共振化学气相沉积法沉积的纳米晶和非晶硅薄膜晶体管:材料分析,器件制造和表征。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:等离子体增强化学气相沉积沉积氮化硅和氮氧化硅薄膜的材料结构和机械性能
机译:电子回旋共振微波等离子体化学气相沉积法研究氮等离子体不稳定性及氮化硅的生长