X射线光刻与光学光刻混合制作T型栅的方法

摘要

一种X射线光刻与光学光刻混合制作T型栅的方法，其工艺步骤如下：1.在半导体基片上涂上底层X射线光刻胶；2.X射线光刻方法曝光底层X射线光刻胶；3.涂上顶层光学光刻胶；4.光学光刻方法曝光顶层光学光刻胶；5.显影顶层光学光刻胶获得宽栅图形；6.显影底层X射线光刻胶获得栅槽图形；7.蒸发、剥离栅金属，完成T型栅制作。