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机译:飞秒激光光刻技术在正性光刻胶上制造亚微米T型栅
Chinese Academy of Sciences, Institute of Semiconductors, Engineering Research Center for Semiconductor Integrated Technology, Beijing 100083, China;
Chinese Academy of Sciences, Technical Institute of Physics and Chemistry, Laboratory of Organic NanoPhotonics and key Laboratory of Functional Crystals and Laser Technology, Beijing 100080, China;
Sun Yat-sen University, School of Physics and Engineering, Xin-Guang-Xi Road 135, Guangzhou 510275, China;
机译:使用正性光刻胶ZEP520 / P(MMA-MAA)/ PMMA三层膜通过在50 kV电子束光刻下两次曝光进行亚100 nm T栅极制造
机译:用于在蓝宝石衬底上形成亚微米图案的双光刻胶互补光刻技术
机译:飞秒单脉冲飞秒激光微米和亚微米级烧蚀涂覆有微米级光刻胶层的银薄膜的特定特征
机译:亚15飞秒激光显微镜在铟锡氧化物薄膜中激光诱导的周期性表面结构的产生和ma-N光刻胶的双光子光刻技术在液晶电池中的应用。
机译:飞秒激光织构和超掺杂硅的制造技术。
机译:基于飞秒激光诱导应力断裂技术的鱼网光学超材料快速制造
机译:飞秒激光光刻技术在正性光刻胶上制造亚微米T型栅
机译:Gaas晶圆制备亚微米沟道的双蚀刻技术及其在激光制备中的应用