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深亚微米同步辐射x射线光刻技术

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摘要

报道了我们制作深亚微米 x射线掩模的工艺和同步辐射 x射线曝光工艺 ,并报道了我们在北京同步辐射装置 (BSRF) 3B1 A光刻束线所获得的深亚微米

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来源
《微纳电子技术》 |2000年第6期|35-37|共4页
作者
谢常青; 叶甜春; 陈大鹏; 赵玲莉; 胥兴才;
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作者单位

中国科学院微电子中心三室;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 TN405.7;
关键词
x射线光刻; 同步辐射; 深亚微米;

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