University of California Santa Barbara;
机译:计算光刻建模回顾:专注于扩展光学光刻和设计技术的共同优化
机译:反射电子束光刻直接写入光刻的大电流电子光学设计
机译:通过基于图像的方法测量EUV光刻光瞳振幅和相位变化
机译:光刻技术的上下文分析和验证引起了65nm设计中的系统变化
机译:光刻系统空间变化的因果分析。
机译:在fNIRS研究中验证光学探针设计和图像配准的新方法
机译:通过基于图像的方法的EUV光刻瞳孔幅度和相位变化的测量
机译:新m.I.T.的建筑设计预算系统:系统设计方法论的应用。