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用三层胶工艺X射线光刻制作T型栅

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摘要

采用三层胶工艺 X射线光刻制作 T型栅 ,一次曝光 ,分步显影 ,基本解决了不同胶层间互融的问题 .该方法制作效率高 ,所制作的 T型栅形貌好 ,头脚比例可控 ,基本满足器件制作要求 .

著录项

来源
《半导体学报》 |2004年第3期|358-360|共3页
作者
孙加兴; 叶甜春; 陈大鹏; 谢常青; 伊福庭;
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作者单位

中国科学院微电子中心;

中国科学院高能物理研究所;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类光刻、掩膜;
关键词
X射线光刻; PHEMT; T型栅; 三层胶工艺;

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