具有不同栅极电介质和工函数金属的纳米片晶体管

摘要

半导体器件及其制造方法包括：对包括沟道层，沟道层之间的第一牺牲层以及沟道层与第一牺牲层之间的第二牺牲层的层堆叠进行构图，以形成一个或多个器件区域。第一牺牲层由具有与第一牺牲层的材料相同的晶格常数的材料形成，并且第二牺牲层由具有与第一牺牲层的材料不匹配的晶格的材料形成。从一个或多个器件区域中的沟道层的侧壁形成源极区域和漏极区域。蚀刻掉第一和第二牺牲层，以使沟道层从源极和漏极区域悬挂下来。在沟道层上沉积栅极叠层。