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机译:离子辅助双直流反应磁控溅射法生长(Zr,Ti)N薄膜
(Zr; Ti)N coatings; magnetron sputtering; ion-assisted;
机译:离子辅助双直流反应磁控溅射法生长(Zr,Ti)N薄膜
机译:改善溅射PB_(1.10)的电性能(Zr_(0.52),Ti_(0.48))O_3 / PB_(1.25)(Zr_(0.52),Ti_(0.48))O_3多层薄膜
机译:RF溅射PB(Zr-0.60,Ti-0.40)O-3薄膜的增强介电和压电性能,沉积在溶胶 - 凝胶的PB1 + X(Zr-0.40,Ti-0.60)O-3种子层上,具有各种铅含量
机译:通过离子辅助双D.C的(Zr,Ti)N薄膜的生长反应磁控溅射
机译:压电瘤应用Pb(Zr0.3Ti0.7)O3薄膜对缩放效应对缩放效应的影响
机译:通过磁控溅射中氮流量的氮气流量调节的Ti-Zr三元氮化物薄膜的结构组成和等离子体特性
机译:双枪RF磁控溅射的Pb(Zr0.9Ti0.1)O3 / Pb(Zr0.1Ti0.9)O3多层薄膜的制备及电性能
机译:srTiO(sub 3)(100)上的外延pb(Zr(sub x)Ti(sub 1(minus)x))O(sub 3)/ srRuO(sub 3)(x = 0,0.35,0.65)多层薄膜通过mOCVD和RF溅射制备mgO(100)和mgO(100)