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Structural Compositional and Plasmonic Characteristics of Ti–Zr Ternary Nitride Thin Films Tuned by the Nitrogen Flow Ratio in Magnetron Sputtering

机译：通过磁控溅射中氮流量的氮气流量调节的Ti-Zr三元氮化物薄膜的结构组成和等离子体特性

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期刊名称 Nanomaterials
作者
Lianlian Chen; Yujing Ran; Zhaotan Jiang; Yinglan Li; Zhi Wang;
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作者单位

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年(卷),期 2020(10),5
年度 2020
页码 829
总页数 13
原文格式 PDF
正文语种
中图分类生化遗传学;生化药理学;
关键词

机译：三元系统;氮化物;薄膜;
入库时间 2022-08-21 12:16:20

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