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卢勤; 李化鹏; 陈希明;
天津电子信息职业技术学院,软件学院,天津300132;
天津理工大学电子信息工程学院,天津300384;
磁控溅射; 择优取向; 氮化铝薄膜; 金刚石;
机译:沉积参数对溅射AlN薄膜择优取向的影响的统计分析
机译:底层材料对薄膜体声波谐振器溅射沉积AlN / Mo双层择优取向的影响
机译:衬底温度对AlN薄膜择优取向转变的影响
机译:工艺参数对脉冲磁控溅射沉积AlN和Al X inf> Sc 1-X inf> N薄膜的结构和压电性能的影响
机译:研究工艺参数变化对离子束溅射Sc2O3和HfO2薄膜的材料性能和激光损伤性能的影响。
机译:两步沉积技术溅射参数对柔性哈氏合金带AlN薄膜生长的影响
机译:工艺参数和添加剂对LSCF6428薄膜电泳沉积的影响(工艺参数和添加剂对电泳胶的影响沉积的LSCF6428膜)
机译:工艺参数对高温超导薄膜激光沉积的影响
机译:用于沉积压电薄膜的ALN ALN方法,该方法是ALN的压电薄膜
机译:用AlN AlN沉积压电薄膜和AlN的方法
机译:使用氮化铝(AlN)/氢化氮化铝(AlN:H)/氮化铝(AlN)的三层薄膜制造表面声波滤波器的方法
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