机译:沉积参数对溅射AlN薄膜择优取向的影响的统计分析
Univ Puerto Rico, Dept Math Phys, Cayey, PR 00736 USA;
aluminum nitride; deposition process; sputtering; X-ray diffraction; LOW-TEMPERATURE; DEPENDENCE;
机译:沉积参数对射频磁控溅射BST薄膜择优取向的影响
机译:反应溅射沉积AlN和氧化的AlN薄膜:膜生长与沉积参数之间的关系
机译:射频溅射沉积AlN薄膜的微观结构和优选取向
机译:在ZnO基材上制备AlN薄膜的高度优选取向
机译:沉积参数与射频磁控溅射沉积氧化锆薄膜性能之间的关系。
机译:两步沉积技术溅射参数对柔性哈氏合金带AlN薄膜生长的影响
机译:晶种层对压电致动器脉冲直流溅射AlN薄膜结晶度和取向的影响