中国浅沟槽隔离技术的专利调查分析

摘要

中国半导体企业目前对于如何借鉴、应用现有专利技术来节约研发成本、缩短研发周期、避免专利侵权等问题还没有很深刻的认识。为了让更多企业能够借鉴已公开的专利技术,了解行业核心技术和其他企业的技术部署,北京市集佳律师事务所上海分所,对浅沟槽隔离技术(STI)中国专利申请进行了调研、分析。(全文见 www.sjchinamag.com)