退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
化学机械研磨; 隔离工艺; 沟槽; CMP技术; 罗门哈斯公司; 半导体行业; 电子材料; 逻辑芯片;
机译:65nm以下低功耗互补金属氧化物半导体技术通过优化浅沟槽隔离工艺来改善浅沟槽隔离应力
机译:浅沟槽隔离工艺技术中硅表面原子平坦化的介绍
机译:低于0.2um dram技术的可制造浅沟槽隔离工艺
机译:闪存(NAND)微加工中的浅沟槽隔离工艺。
机译:浅俯冲带上方非常靠近沟槽的全新世变形
机译:多晶硅Cmp沟槽隔离工艺的研究进展
机译:罗门哈斯曝光限制文件附件和封面页080189(已消毒)。
机译:制造能够在浅沟槽隔离工艺中精确调整沟槽深度的半导体装置的方法
机译:沟槽底角倒圆的方法及浅沟槽隔离工艺
抱歉,该期刊暂不可订阅,敬请期待!
目前支持订阅全部北京大学中文核心(2020)期刊目录。