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Method for rounding bottom corners of trench and shallow trench isolation process

机译:沟槽底角倒圆的方法及浅沟槽隔离工艺

摘要

A method for rounding the bottom corners of a trench is described. In the method, an etching process is performed using a fluorocarbon compound with at least two carbon atoms, He and O2 as an etching gas to round the bottom corners of the trench.
机译:描述了一种用于使沟槽的底角变圆的方法。在该方法中,使用具有至少两个碳原子的He和O 2 的碳氟化合物作为蚀刻气体执行蚀刻工艺,以使沟槽的底角变圆。

著录项

  • 公开/公告号US2006110891A1

    专利类型

  • 公开/公告日2006-05-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 KAO-SU HUANG;

    申请/专利号US20040997507

  • 发明设计人 KAO-SU HUANG;

    申请日2004-11-24

  • 分类号H01L21/76;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 21:46:28

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