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掺铒Si/Al2O3多层结构中结晶形态对1.54 μm发光的影响

         

摘要

利用脉冲激光沉积的方法制备掺铒 Si/Al2O3多层结构薄膜,获得了由纳米结构的Si作为感光剂增强的Er3+在1.54 μm高效发光.利用拉曼散射、高分辨透射电镜和光致发光测量研究了在不同退火温度下(600-1000 ℃)纳米结构Si层的结晶形态变化,及对Er3+在1.54 μm的发光的影响特征.研究发现最佳发光是在退火温度600-700 ℃.在这个条件下纳米Si的尺寸和密度,Si和Er的作用距离以及Er3+发光的化学环境得到了优化.进一步,光致发光瞬态衰减谱研究表明,当纳米Si尺寸小时,衰减遵循单指数模式(慢过程),当纳米Si尺寸大时,衰减遵循双指数模式(快过程和慢过程),其中衰减中快过程来自类体Si的对激发态Er3+去激发过程,慢过程对应典型的纳米Si体系衰减过程.

著录项

  • 来源
    《物理学报》 |2009年第6期|4243-4248|共6页
  • 作者单位

    南京大学物理系,江苏省光电功能材料重点实验室,南京,210093;

    复旦大学物理系,上海,200433;

    南京大学物理系,江苏省光电功能材料重点实验室,南京,210093;

    南京大学物理系,江苏省光电功能材料重点实验室,南京,210093;

    复旦大学物理系,上海,200433;

    南京大学物理系,江苏省光电功能材料重点实验室,南京,210093;

    南京大学物理系,江苏省光电功能材料重点实验室,南京,210093;

    南京大学物理系,江苏省光电功能材料重点实验室,南京,210093;

    中国科学院福建物质结构研究所,福州,350002;

    南京大学物理系,江苏省光电功能材料重点实验室,南京,210093;

    南京大学物理系,江苏省光电功能材料重点实验室,南京,210093;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 物理学;
  • 关键词

    铒; 纳米硅; 能量转移; 氧化铝;

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